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    公开号:WO1991008186A1
    申请号:PCT/JP1990/001555
    申请日:1990-11-29
    公开日:1991-06-13
    发明作者:Hisao Takayanagi；Yasunori Kitano；Yasuhiro Morinaka
    申请人:Mitsubishi Kasei Corporation；
    IPC主号:C07C255-00
    专利说明:
    [0001] ^ノ 明 細 書 置換鎖状テルペン系化合物 技 術 分 野
    [0002] 本発明は新規な置換鎖状テルペン系化合物に関するものである。 詳しくは本発明は抗発癌プロモーター作用および抗腫瘍作用を有す るザルコフィ トール Aの製造中間体として有用な、 新規な置換鎖状 テルペン系化合物に関するものである。
    [0003] 背 景 技 術
    [0004] ザルコフィ トール Aは、 抗発癌プロモータ一作用 [Cancer S ur veys, 2., 540 (1983):代謝， νο12 δ 臨時増刊号癌 ' 88, 3 (1988)] および抗腫瘍作用（特公昭 63 - 20213号公報） を有し、 有用な抗腫瘍剤として知られている。 ザルコフィ トール A は以下の構造式で示されるように、 その 14員環中に一つの共役二 重結合を含む計 4つの二重結合を有するセンプレン型ジテルペンァ ルコールである
    [0005]
    [0006] ザルコフィ トール A
    [0007] A
    [0008] ゲ
    [0009] 本発明者らはザルコフィールト匕 Aの製造方法を開発することを目 的として研究を重ね、 以下の反応ルート 1で示されるザルコフイ ト ール Aの合成法を提供した（特願平 1一 1 8 1 7 1 0号、 出願曰 平成 1年 7月 1 4曰）。 反応ルート
    [0010] SeOj
    [0011] ： -BuOH 還兀
    [0012] E テル化 R7
    [0013] (C) (D) JP90/01555
    [0014]
    [0015] ひ） ザルコフィ トール A
    [0016] 二シト
    [0017] リリ LT
    [0018] 上記の式において、 R7は C! C^の低級アルキル又はフヱルリメニルチル
    [0019] - 基 ； X1はハロゲン原子又は基： 0 S 02R9等で示される脱離基、
    [0020] R9はメチル基、 ェチル基等の低級アルキル基、 ト リフルォロメチ ル基等の置換アルキル基、 フヱニル基、 又はトルィル基、 メシチル 基等の置換フヱニル基； R8はトリメチルシリル基、 1一エトキシ ェチル基、 又は水素原子を表す ( 上記の反応ルート 1で示される方法によればザルコフィ一ルト A を製造することが可能であるが、 この方法には幾つかの問題点があ る。 例えば、 以下の点を指摘することができる。
    [0021] 1) ザルコフィ トール Aの合成に必要な立体配置を有する出発物 質の E， E—フアルネサール化合物（A)が高価である。
    [0022] 2) 化合物（B)の二酸化セレンによる末端位酸化は、 位置選択性 および収率のいずれも、 十分高いとは言えない。
    [0023] 3) 化合物（D)を還元して化合物（E)とした後、 化合物（E)を再 び酸化して化合物（F)を得る工程は複雑で、 非効率的である。 このように、 反応式 1における出発物質（A) から中間体化合物 (F)を得る工程はザルコフィールト Aの工業生産に最適とは言え ず、 より効率の良い中間体化合物（F) の合成法が必要とされてい た。
    [0024] 本発明者らは、 中間体（F)のより簡便で効率的な製造方法を開発 することにより、 最終物質であるザルコフィ トール Aの工業生産に 適した製造法を提供することを目的として鋭意検討した結果、 ある 種の新規な鎖状テルペン化合物が該目的の達成に有用であることを 見い出し、 本発明に到達した。 発 明 の 開 示 ί 即ち、 本発明は一般式（I )：
    [0025] [式中、 Rは基：
    [0026] R R2 0
    [0027] I I!
    [0028] 一 CH = CHCHCH(CH3)2- ― H 2 C H Cし Hs、
    [0029] HO R
    [0030] または 一 CH2CH2CCH3
    [0031] (式中、 R1はシァノ基またはホルミル基、 R2は水素原子または一
    [0032] C02R3、 R3は C!〜C4アルキル基、 R4は一 Cョ CHまたは一 C
    [0033] H=CH2を表す） ； Xは水素原子、 ヒ ドロキシル基、 ハロゲン原 子、 または基：
    [0034] — OR5または一〇 S 02R
    [0035] (式中、 R5は水素原子、 1一アルコキシアルキル基、 テトラヒ ド 口フリル基、 テトラヒ ドロビラ二ル基、 ァシル基、 または Ci Cs アルキル基もしくはフヱニル基で置換されたシリル基、 R6はハロ ゲン原子で置換されていてもよい Ci〜( 4アルキル基または C!〜
    [0036] C 4アルキル基で置換されていてもよいフヱニル基を表す） ； nは 0 〜2の整数を表す。 但し、
    [0037] R2 0 HO R4
    [0038] I II /
    [0039] Rがー CH2CHC CH3または一 CH2CH2C CH3であるとき、
    [0040] Xは一 OR 5のみ、 nは 0のみを表し； R1がホルミル基であるとき、 Xはハロゲン原子または一 OS 02R6ではなく ； R5が水素原子で あるとき、 R 2は水素原子ではなく ； R 5が 1一エトキンェチル基で あるとき、 R3はメチル基ではないことを条件とする。 ]
    [0041] で示される置換鎖状テルペン系化合物を提供するものである。
    [0042] 上記の式（I )の定義に用いた語句は以下の意味を有する。
    [0043] R3の定義において：
    [0044] 「 C !〜 C 4アルキル基」 とは直鎖状または分枝鎖状の炭素原子数 1〜 4のアルキル基であって、 メチル、 ェチル、 n—プロピル、 ィ ソプロピル、 ブチル、 イソブチル、 sec—ブチルおよび tert—ブチ ル等を含む。
    [0045] R5の定義において ：
    [0046] rC! Csアルキル基」 とは上記定義にペンチル、 イソペンチル、 ネオペンチル、 1, 2—ジメチルブチルを加えた群からなる。 「1 —アルコキシアルキル基」 としてはメ トキシメチル基、 1ーェトキ シェチル基等を挙げることができる。 rc! Csアルキル基もしく はフヱニル基で置換されたシリル基」 としては、 トリメチルシリル 基、 tーブチルジメチルシリル基、 t—ブチルジフヱニルシリル基等 を挙げることができる。 「ァシル基」 としてはァセチル基、 プロピ ォニル基、 ベンゾィル基等を挙げることができる。
    [0047] R6の定義において ：
    [0048] 「ハロゲン原子」 にはフッ素原子、 塩素原子および臭素原子等が 含まれる。 「ハロゲン原子で置換されていてもよい C!〜C4アルキ ル基」 にはメチル基、 ェチル基、 プロピル基、 ブチル基、 トリフロ ロメチル基、 トリクロロメチル基等が含まれる。 「。！〜。 アルキ ル基で置換されていてもよいフヱニル基」 にはフヱニル基およびパ ラ トリル基等が含まれる。
    [0049] 発明を実施するための最良の形態 上記の一般式（I )で示される本発明化合物の内、 代表的な化合物 を以下に示す。 これらは単なる例示にすぎず、 本発明を制限するも のではない。
    [0050] (以下余白）
    [0051] R
    [0052] (1) 尺がー〇11 =〇11(：1¾〇^1(じ1^3)2でぁる化合物
    [0053] ① R1- C N、 n= 0
    [0054] 化合物番号 X
    [0055] 1 一 H
    [0056] 2 一 OH
    [0057] 3
    [0058] 6 0 Si(CH3)3
    [0059] 8 -OCHCH3(0)C2H5
    [0060] (以下余白） C N、 n=
    [0061] 化合物番号 X
    [0062] 9 -H
    [0063] 10 一 OH
    [0064] 11 Ci
    [0065] 12 -Br
    [0066] 13 -0 S 02CH3
    [0067] 15 -OCHCH3(OEt)
    [0068] 16 -0 CH20 CH3
    [0069] (以下余白） CN> n=2
    [0070] 化合物番号 X
    [0071] 18 H 19 OH
    [0072] 20 一 C£ 21 一 0 S 02CH3
    [0073] 22 -0 C 0 CH3
    [0074] (以下余白）
    [0075] CHO、 n= 0
    [0076] 化合物番号 X
    [0077] 23 H
    [0078] 24 -OH
    [0079] 25 — OSi(CH3)2 · C4H9 26 -OCHCH3(OC2H5)
    [0080] (以下余白）
    [0081] ⑤ R^CHO n= 1
    [0082] 化合物番号 X
    [0083] 28 一 H
    [0084] 29 一 OH
    [0085] 30 一 OCHCH3(OC2H5)
    [0086] 33 OCOCH3 34 •oco-<o;
    [0087] ⑥ R -CHO n=2
    [0088] 化合物番号 X
    [0089] 35 H
    [0090] 36 -OH
    [0091] 37 一 OCHCH3(OC2H5) 38 -OCOCHs R2 0
    [0092] I II
    [0093] (2) Rがー CH2CHC CH3である化合物
    [0094]
    [0095] 化合物
    [0096] R R
    [0097] 2 - C 02CH3 3 一 C02CH3 ― Si(CHs)2 4H 9 4 — C O2C2H5 — Sl(CH3)2 4H 9 5 -C02CH3 一 H 6 一 C 02CH3 -COCH3
    [0098] OC2H5
    [0099] 8 H
    [0100] 一 CHCH3
    [0101] 9 H 一 CH2〇 CH3
    [0102] 11 H - S 1 ( C H 3) 2 C 4 H 91 HO R4
    [0103] /
    [0104] (3) Rがー CH2CH2C CH3の場合
    [0105]
    [0106] 化合物
    [0107] R R
    [0108] OC2H5
    [0109] 15 -CH=CH
    [0110] CHCH3
    [0111] 17 - CH = CH2 - CH20 CH3
    [0112] 18 -CH=CH2 ― Si (レ ΓΪ3)2。4Η 4
    [0113] 19 一 CH = CH2 -H
    [0114] 20 一 CH=CH2 -COCHs
    [0115] 0 C2H5
    [0116] 22 -C≡CH
    [0117] 23 C≡CH
    [0118] 24 -C≡CH CH20 CH3
    [0119] 25 C CH Si、し Η 3)2。4Η 91
    [0120] 26 C CH H
    [0121] 27 C CH COCHs
    [0122] 28 一 C≡CH CO-g) 上記の化合物およびそれ以外の式（i)で示される化合物は例えば ザルコフィ トール A合成中間体として有用であるが、 その内、 好ま しい化合物として、 nが 0または 1である化合物を挙げることがで きる。 さらに、 特に好ましい化合物として、 具体的には前記例示化 合物の（1)1、 2、 3、 9、 10、 11、 12、 13、 14、 15
    [0123] 7、 23、 24、 28、 29、 30、 32、 33 ； (2)2. 6、
    [0124] 8、 10、 12、 15、 16、 19、 20、 22、 23の化合物を 挙げることができる
    [0125] 以下に本発明の化合物（I )の製造方法を化合物の型に応じて説明 する /01555
    [0126] R1
    [0127] (1) —般式（I )において Rがー CH = CHCHCH(CH3)2で ある化合物の製造
    [0128] ① 、 X = Hで表される化合物
    [0129] この化合物群の内、 n= 0である化合物はゲラニアールを、 n= l である化合物はフアルネサールを、 n= 2である化合物はゲラニル ゲラニアールを出発物質とし、 これらと、 1〜10当量の Wittig — Horner試薬とを、 Wittig— Horner試薬に対して 1当量以下の 塩基の存在下、 適当な溶媒中で反応させる方法等により製造するこ とができる。
    [0130] 用い得る Wittig— Horner試薬としては、 2—（ジメチルホスホ
    [0131] ノ）ィソバレロ二卜リルまたは 2— (ジェチルホスホノ）ィソバレロ
    [0132] 二トリル等を挙げることができる。 通常、 これらの試薬を出発物質 に対して 1〜10当量の割合で用いる。
    [0133] 適当な溶媒としては、 テトラヒ ドロフラン（THF)またはジェチ ルエーテル等のエーテル系溶媒、 ベンゼン、 トルエン、 n—へキサ ン、 ヘプタン等の炭化水素系溶媒およびジメチルホルムアミ ド（D
    [0134] M F )等の非プロ トン性極性溶媒を挙げることができ、 トルエン、 n
    [0135] 一へキサン等の炭化水素系溶媒が好ましい。
    [0136] 塩基としては、 水素化ナトリウム、 水素化力リウム等の金属水素
    [0137] 化物、 n—ブチルリチウム、 リチウムジイソプロピルアミ ド、 リチ
    [0138] ゥムビス（トルメチルシリル）ァミ ド、 カリウムビス（トリメチルシ
    [0139] リル）アミ ド等の有機金属またはナトリウムメ トキシド、 tーブトキ
    [0140] シカリウム等の金属アルコキシドを挙げることができる。 通常、 W
    [0141] ittig— H orner試薬に対して塩基を 1当量 0下の割合で用いる。
    [0142] なお、 用いる溶媒の種類および塩基の種類を選ぶことにより、 二
    [0143] 重結合の幾何異性をコントロールすることができる。
    [0144] 反応温度は通常、 一 1 0 0〜1 0 0 °Cの範囲とすることができる。
    [0145] 好ましい反応温度は一 8 0〜5 0 °Cであり、 特に好ましい温度は一
    [0146] 7 0〜0 °Cである。
    [0147] それぞれの出発物質を、 選択した溶媒中、 選択した Wittig— H o
    [0148] rner試薬および塩基の存在下、 上記の温度範囲で反応させることに より発生するァニオンで処理すると、 対応する生成物が得られる。 上記の反応条件下、 通常、 30分〜 12時間で反応は終了する。
    [0149] ② X = Hで表される化合物
    [0150] 例えば、 前記①の方法で製造した化合物に、 π—へキサン、 ヘプ タン、 ベンゼン、 トルエンなどの炭化水素系溶媒中、 一 100〜1 50°Cにおいて 1〜10当量の水素化ジイソブチルアルミニウム等 の金属水素化物を作用させ、 次いで、 加水分解することにより製造 することができる。
    [0151] ③ X=OHで表される化合物
    [0152] 例えば、 前記の①または②の方法で製造した化合物に、 塩化メチ レン等の溶媒中、 0.01〜0.1当量の二酸化セレンの存在下、 当 量〜 50当量の t—プチルヒ ドロパーォキシドをー 20〜50°Cで 1〜100時間作用させることにより製造することができる。
    [0153] ④ R! = CN、 X =ハロゲン原子で表される化合物
    [0154] 例えば、 前記③の方法で製造した R1== CNのアルコール体から、 ァリルアルコールをァリル転位することなくハロゲン化する方法に より製造することができる。 そのような方法として、 当量〜 10当 量の四ハロゲン化炭素を当量〜 10当量のトリフヱニルホスフィン の存在下、 ァセトニトリル等の不活性溶媒中、 室温から 10 o°cの 温度で 1〜8時間反応させる方法がある。 この方法ではクロル化の 場合には四塩化炭素を溶媒兼用で用いてよい。 あるいはジメチルホ ルムァミ ド等の極性非プロ トン性溶媒中、 当量から 10当量のメタ ンスルホニルクロリ ド、 ハロゲン化金属塩およびアーコリジンを一
    [0155] 40°Cから室温で、 1〜10時間作用させる方法を用いることもで さる。
    [0156] ⑤ Ι^ = 0Ν、 X = OS 02R6(R6は前記定義に従う）で表され る化合物
    [0157] 例えば、 前記③の方法で製造した R1:=CNのアルコール体に、 ェチルエーテル、 テトラヒ ドロフラン等のエーテル系溶媒または塩 化メチレン、 クロ口ホルム等のハロゲン系溶媒中、 当量〜 10当量 のトリエチルァミン、 ピリジン等のァミンの存在下、 あるいはピリ ジンを溶媒として、 一 40°C〜室温で、 当量〜 10当量のメタンス ルホニノレクロリ ド、 パラ トルエンスルホニノレクロリ ド等のスルホン 酸塩化物またはトリフルォロメタンスルホン酸無水物等のスルホン 酸無水物を、 1〜10時間作用させる方法などによって製造するこ とができる。
    [0158] ⑥ X = OR5(R5は前記定義に従う）で表される化合物
    [0159] a) R 5が置換シリル基の場合
    [0160] 前記③の方法で製造した化合物にェチルエーテル、 THFなどの エーテル系溶媒、 ジメチルホルムアミ ド等の極性非プロ トン性溶媒、 またはジクロロメタン、 クロ口ホルムなどのハロゲン系溶媒中、 一 50〜50°Cで 0.5〜10当量の トリエチルァミ ン、 ピリジン、 ィミダゾ一ル等の塩基存在下、 0.5〜 10当量のトリメチルク口 ロシラン、 t—ブチルジメチルクロロシラン等の置換シリノレクロリ ドを作用させる方法などにより製造できる。
    [0161] b) R5が 1一アルコキシアルキル基である場合
    [0162] 前記③の方法で製造した化合物に 0.5〜10当量のクロロメチ ルメチルエーテル、 クロロメチル一（2—メ トキシェチル）エーテル 等の 1一八口アルキルエーテル類を 0.5〜10当量の水素化ナト リウム、 水素化カリウム、 ジイソプロピルァミン、 トリェチルアミ ン等の塩基存在下、 THF、 DMF等の溶媒中あるいは無溶媒で一 50〜50°Cにて作用させる方法、 または 1〜10当量のビニルェ チルエーテル、 ジヒ ドロピラン等の 1一アルケニルアルキルエーテ ル類を、 ジェチルェ一テル、 THF等のエーテル系溶媒、 酢酸ェチ ル等のエステル系溶媒またはジクロロメタン、 クロロホルム等のハ ロゲン系溶媒中、 — 20〜100°Cで、 触媒量〜当量の塩酸、 硫酸 等の鉱酸、 パラ トルエンスルホン酸、 カンファースルホン酸等の有 機スルホン酸またはパラ トルエンスルホン酸のピリジニゥム塩等の 塩の存在下で反応させる方法などにより製造できる。
    [0163] c) R 5がァシル基の場合
    [0164] 前記③の方法で製造した化合物に、 1〜10当量のトリエチルァ ミ ン、 ピリジン等の塩基の存在下、 1〜10当量の塩化ァセチル、 塩化ベンゾィル等のァシルハライ ドまたは無水酢酸、 無水トリクロ ロ酡酸等の酸無水物を、 ジクロロメタン、 クロ口ホルム等のハロゲ 55 ン系溶媒、 ェチルエーテル、 TH F等のエーテル系溶媒、 ベンゼン.
    [0165] トルエン、 n—へキサン等の炭化水素系溶媒中、 または溶媒を用い ず塩基を溶媒兼用で用い、 一 20〜100°Cで作用させる方法など により製造することができる。
    [0166] R2 0
    [0167] I II
    [0168] (2) —般式（I)において、 Rがー CH2CHCCH3で表される 化合物の製造
    [0169] ① 一般式（ I )において R5= 1—アルコキシアルキル基、 テト ラヒ ドロビラ二ル基、 テトラヒ ドロフラニル基、 または C】〜C5の アルキル基もしくはフヱニル基で置換されたシリル基、 R2= C 02
    [0170] R3(R 3は前記定義に従う）で表される化合物
    [0171] 例えば、 以下のいずれかの方法により 8—ヒ ドロキシゲラニルァ セテー卜の 8位のヒ ドロキシ基が—OR 5(R 5は上記の定義に従う） で置換された化合物を製造する。
    [0172] a) 8—ヒ ドロキシゲラニルアセテー トに、 0.1〜10当量のク ロロメチルメチルェ一テル、 クロロメチルー 2—メ トキシェチルェ 一テル等の 1ーハロアルキルエーテル類を、 塩化メチレン、 クロ口 ホルム等のハロゲン系溶媒、 ジェチルエーテル、 テトラヒ ドロフラ ン等のエーテル系溶媒又は酢酸ェチル、 ジメチルホルムアミ ド等の 溶媒中、 あるいは無溶媒で 0 . 5〜1 0当量の水素化ナトリウム、 水素化カリウム等の金属水素化物、 トリヱチルァミ ン、 ジイソプロ ピルェチルァミ ン等のァミン類、 またはピリジン等を塩基として一 2 0〜十 1 0 0 °Cで 5分間〜 2 4時間作用させる。
    [0173] b) 8—ヒ ドロキシゲラニルアセテートに、 0 . 1〜1 0当量のェ チルビ二ルェ一テル、 ジヒ ドロピラン等のビニルエーテル類を触媒 量の塩酸、 硫酸等の鉱酸、 パラ トルエンスルホン酸、 カンファース ルホン酸等の有機スルホン酸ぁるいはパラ トルエンスルホン酸のピ リジニゥム塩等の強酸の塩の存在下、 ジクロロメタン、 クロ口ホル ム等のハロゲン系溶媒、 ジェチルエーテル、 テトラヒ ドロフラン等 のエーテル系溶媒または酢酸ェチル、 ジメチルホルムアミ ド等の溶 媒中、 または無溶媒で— 2 0〜十 1 0 0 °Cで反応させる。
    [0174] c) 8—ヒ ドロキシゲラニルアセテートに、 0 . 1〜1 0当量のト リメチルシリノレクロリ ド、 tーブチルジメチルシリルクロリ ド等の ハロゲン化トリアルキルシランを塩化メチレン、 クロロホルム等の ハロゲン系溶媒、 へキサン、 ベンゼン等の炭化水素系溶媒、 ジェチ ルエーテル、 テトラヒ ドロフラン等のエーテル系溶媒または酢酸ェ チル、 ジメチルホルムアミ ド、 ジメチルスルホキシド等の溶媒中、
    [0175] 0 . 1 - 1 0当量のトリェチルアミ ン、 ジメチルアミノ ピリジン、 イミダゾール等の含窒素化合物、 あるいは水素化ナトリウム、 水素 化力リウム等の金属水素化物を塩基として一 2 0〜+ 1 0 0 °Cで 5 分間〜 2 4時間作用させる。
    [0176] 次いで、 このようにして得られた化合物と、 例えばァセト酢酸ェ ステルのアル力リ金属塩とを反応させて所望の化合物を得る。 即ち、 ジェチルエーテル、 テトラヒ ドロフラン、 ジメチルホルムアミ ド、 ジメチルスルホキシド等の極性非プロ トン性溶媒中、 テトラキス（ トリフユニルホスフィ ンパラジゥム等の 0価パラジゥム錯体触媒存 在下で、 ァセト齚酸ェチル、 ァセト酢酸ェチル等のァセト酢酸エス テル類に水素化ナトリウム等の金属水素化物あるいは π—プチルリ ゥム、 リチウムジィソプロピルァミ ン等の強塩基類をジェチルエー テル、 テトラヒ ドロフラン、 ジメチルホルムアミ ド、 ジメチルスル ホキシド等の非プロ 卜ン性極性溶媒中、— 70〜十 100°Cで反応 させることにより調製することができるァセト酢酸エステルのアル 力リ金属塩を一 70〜十 100°Cで 30分間〜 48時間反応させて 目的化合物を得る。
    [0177] ② 一般式（I)において R5 = H、 R2=C02R3(R3は前記定義 に従う） で表される化合物
    [0178] 例えば上記①の方法で製造した化合物をメタノール、 エタノール 等のアルコール性溶媒、 水、 あるいはそれらの混合溶媒中、 0.1 〜10当量の塩酸、 硫酸等の鉱酸、 パラ トルエンスルホン酸等の有 機強酸、 あるいはパラトルエンスルホン酸のピリジニゥム塩等の強 酸の塩を作用させる方法により製造することができる。 またはメタ ノール、 エタノール、 水等のプロ トン性極性溶媒、 ジェチルエーテ ル、 テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、 またはそれらの混合 溶媒中、 0.1〜10当量のフッ化テトラプチルアンモニゥム等の 1 5 フッ化テトラアルキルアンモニゥム類またはフッ化水素酸等を作用 させる方法によっても製造することができる。
    [0179] ③ 一般式（I )において R5 =ァシル基、 R2=C02R3(R3は前 記定義に従う）で表される化合物
    [0180] 上記②で製造した化合物に 0.1〜10当量のトリエチルアミ ン、 ピリジン等の塩基の存在下、 0.1〜10当量の塩化ァセチル、 塩 化ベンゾィル等のァシルハライ ド又は無水酢酸等の酸無水物を、 ジ クロ口メタン等のハロゲン系溶媒、 ジェチルエーテル等のエーテル 系溶媒、 またはベンゼン、 n—へキサン等の炭化水素系溶媒中、 ま
    [0181] たは溶媒を用いず塩基を溶媒兼用で用い、 一 20〜十 100°Cで作 用させる方法などにより製造することができる。
    [0182] ④ 一般式（I )において R5 =水素原子、 1—アルコキシアルキ
    [0183] ル基、 テトラヒ ドロフラニル基、 テトラヒ ドロビラ二ル基、 Ci〜
    [0184] C5のアルキル基で置換されたシリル基またはァシル基、 R2=Hで 表される化合物
    [0185] 例えば、 上記①〜③の方法により製造した化合物をジェチルエー テル、 テトラヒ ドロフラン等のエーテル系溶媒、 メタノール、 エタ ノール、 水等のプロ トン性極性溶媒、 またはそれらの混合溶媒中、
    [0186] 0.1-10当量の水酸化ナトリウム、 水酸化力リゥム等の金属水 酸化物またはナトリウムメ トキシド等の金属アルコキシドと 0〜1 00°Cで 10分間〜 24時間反応させ、 加水分解またはエステル交 換した後、 トルエン、 キシレン等の炭化水素系溶媒中 100〜25 ◦ °Cにて 30分間〜 10時間反応させる脱炭酸法、 またはジメチル ホルムァミ ド、 ジメチルスルホキシド等の非プロ トン性極性溶媒中 0.1-10当量の塩化ナトリウム、 ヨウ化ナ卜リウム等の金属ハ ロゲン化物と 50〜250°Cで反応させる脱カルボアルコキシ化反 応等の方法で製造することができる。
    [0187] HO R
    [0188] /
    [0189] (3) —般式（1)にぉぃて尺が一〇15201!2じ（：113で表される 化合物の製造
    [0190] ① 一般式（ I )において R5 = H、 1一アルコキシアルキル基、 テトラヒ ドロフラニル基、 テトラヒ ドロビラニル基または C 1〜C5 のアルキル基もしくはフヱニル基で置換されたシリル基、 R4がー
    [0191] CH=CH2で表される化合物
    [0192] 例えば、 前記（2)の④の方法で製造した化合物にジェチルエーテ ルテトラヒ ドロフラン等のエーテル系溶媒、 または π—へキサン、 ベンゼン等の炭化水素系溶媒中、 0.1〜10当量のビニルリチウ ム、 ビニルマグネシウムブロミ ド等のビニルァニオンを一 50〜 1 00°Cにて 30分間〜 48時間作用させる付加反応により製造する ことができる。
    [0193] ② 一般式（ I )において R5 = H、 1一アルコキシアルキル基、 テトラヒ ドロフラニル基、 テトラヒ ドロビラニル基または C！〜 C 5 のアルキル基もしくはフヱニル基で置換されたシリル基、 R4がー C≡ CHで表される化合物
    [0194] 例えば前記（2 )の④の方法で製造した化合物にジェチルエーテル、 テトラヒ ドロフラン等のエーテル系溶媒、 または n—へキサン、 ベ ンゼン等の炭化水素系溶媒中、 0.1〜10当量のリチウムァセチ リ ド、 ェチニルマグネシウムブロミ ド等の金属ァセチリ ドをー 50 〜十 100°Cにて 30分間〜 48時間作用させる付加反応によって 製造することができる。
    [0195] ③ 一般式（I )において R5 =ァシル基、 R4が一 CH=CH2ま たは一 C≡ CHで表される化合物
    [0196] 例えば前記（3)の①あるいは（3)の②の方法で製造される R 5が 水素原子で R4が一 CH=CH2または _C≡ CHで表される化合物 に 0.1〜： L 0当量のトリェチルァミン、 ピリジン等の塩基の存在 下、 0.1〜10当量の塩化ァセチル、 塩化ベンゾィル等のァシル ハライ ド又は無水^酸等の酸無水物をジクロ口メタン等のハロゲン 系溶媒、 ジェチルエーテル等のエーテル系溶媒、 またはベンゼン、 n—へキサン等の炭化水素系溶媒中、 または溶媒を用いず塩基を溶 媒兼用で用い、 一 20〜十 100°Cで作用させる方法などにより製 造することができる。
    [0197] 上記は、 本発明化合物（ I )の好適な製造方法を例示したものであ る。 本発明はこれらの製造方法によって製造された化合物（I )に限 定されるものではなく、 当業者既知の他の方法で製造された式（I ) の化合物も本発明範囲内に包含されるということは、 当業者ならば 理解し得ることである。
    [0198] 上記から明らかなように、 本発明化合物を用いることにより、 前 記ザルコフィ トール Aの合成ルート 1における鍵中間体（F )を、 安 価かつ入手容易なモノテルぺノィ ドを出発原料とし、 従来法におけ るアルコールからアルデヒ ドへの酸化工程を経ずに、 短工程で高収 率に得ることができる。 従って、 本発明によればザルコフィ トール Aの有利な工業的な製造が可能となる。
    [0199] 様々な本発明化合物（I )を出発物質として、 前記反応ルート 1に おける中間体（F：)、 さらには最終目的物質であるザルコフィ トール Aを製造する方法を以下に例示する。
    [0200] (以下余白）
    [0201] (1) 一般式（I )において が
    [0202] CN
    [0203] 一 CH = CHCHCH(CH3)2、 Xがハロゲン原子、 nが 1で表さ れる化合物を出発物質とする場合
    [0204] 上記定義で示される化合物（I )に、 トルエン、 ベンゼン、 n—へ キサン等の溶媒中、 一 100〜100°Cで 0.1〜10当量の水素 化ジイソブチルアルミニウムを作用させた後、 加水分解すると、 前 記反応ルート 1の化合物（F)が製造される。
    [0205] (2) —般式（I )において R5が 1一アルコキシアルキル基で表 され尺が
    [0206] HO C≡CH
    [0207] /
    [0208] -CH2CH2CCH3 で表される化合物（I ')、 または、 一般 式（I：)において R2が 1一アルコキシアルキル
    [0209] HO C≡CH
    [0210] /
    [0211] 基で表され、 Rがー CH2CH2C CH3 で表される化合物（I") を出発物質とする場合 反応ルート 2
    [0212]
    [0213] 異性化
    [0214] (Γ) (Α')
    [0215]
    [0216] ザノレコフィ トーゾレ A
    [0217] (式中、 R5および Xは前記定義に従う） a) 化合物（Γ)を出発物質とする場合
    [0218] 化合物（Γ)に 0.01〜1当量の トリス（卜 リフエニルシリル）バ ナデート、 ポリ Kジフヱニルシリル）バナデ一ト}等のシリルバナデ ート類存在下、 ゥンデカン、 キシレン等の炭化水素系溶媒、 ビス [ 2— (2—メ トキシェトキシ）ーェチル]エーテル等のエーテル系溶 媒、 または鉱油中、 100〜300°Cで 30分間〜 24時間作用さ せる転位反応により化合物（Α')を製造する。
    [0219] b) 化合物（I ")を出発物質とする場合
    [0220] 化合物（I ")に塩化メチレン、 クロ口ホルム等のハロゲン系溶媒、 n—へキサン、 ベンゼン等の炭化水素系溶媒、 ジメチルホルムアミ ド等の溶媒中、 0〜100°Cにてピリジニゥムクロ口クロメート等 の酸化クロム類を 30分間〜 24時間作用させる方法により、 不飽 和アルデヒ ド（Α')を製造する。
    [0221] c) 次いで、 アルデヒド（Α')から（Β')を得るには、 （Α')を例え ば 0.1〜10当量の 2—（ジメチルホスホノ）一イソバレル二トリ ル、 2—（ジェチルホスホノ）一ィソバレル二トリル等の Wittig— Horner試薬に、 ジェチルエーテル、 テトラヒドロフラン等のエー テル系溶媒、 n—へキサン、 トルエン等の炭化水素系溶媒あるいは ジメチルホルムアミ ド、 ジメチルスルホキシ ド等の非プロ トン性極 性溶媒中一 100〜十 100°Cで、 塩基として Wittig試薬に対し 1当量以下の水素化ナトリウム、 水素化力リウム等の金属水素化物、 n—ブチルリチウム、 リチウムジイソプロピルアミ ドなどの有機金 属化合物、 ナトリウムメ トキシド、 t—ブトキシカリウムなどの金 属アルコキシドを作用させることにより発生したァニオンで、 一 1 00〜十 100°Cの温度で処理する。
    [0222] この（Β')に例えばジェチルエーテル、 テトラヒ ドロフラン等の エーテル系溶媒中、 0.1〜10当量の水素化アルミニウムリチウ ム等の金属水素錯化合物を一 70〜十 100°Cで作用させる方法、 あるいは n—へキサン、 ベンゼン等の炭化水素系溶媒中、 0.1〜1 0当量の水素化ジィソプロピルアルミニゥム等の金属水素化物を一 70〜十 100°Cで 5分間〜 5時間作用させるなどの方法により、 アルデヒ ド（C')を製造する。
    [0223] さらに、 アルデヒ ド（C')に、 例えば含水メタノール、 含水エタ ノール、 含水テトラヒ ドロフラン、 あるいはそれらの混溶媒中、 0. 1〜10当量の塩酸、 硫酸等の鉱酸、 パラ トルエンスルホン酸等の 有機強酸、 あるいはパラ トルエンスルホン酸のピリジニゥム塩等の 強酸の塩を作用させるとアルコール （Ε') を製造することができ る。
    [0224] 以下の方法に従い、 ァリルアルコールをァリル転位することなく ハロゲン化することにより（Ε')から化合物（F)を製造する。
    [0225] 例えば（Ε')に 0.1〜10当量の四ハロゲン化炭素を、 0.1〜 10当量のトリフヱニルホスフィンの存在下、 ァセトニトリル、 ジ クロ口メタン等の溶媒中、 あるいはクロル化の場合は四塩化炭素を 溶媒兼用で用い、 —10〜十 100°Cで 10分間〜 12時間反応さ せる。 あるいは（Ε')にジメチルホルムァミ ド等の極性非プロ トン 性溶媒中、 0.1〜10当量のメタンスルホニルクロリ ド、 ρ—トル エンスルホニルク口リ ド等のハロゲン化スルホニル類と塩化リチウ ム等のハロゲン化金属塩をピリジン、 S—コリジン、 ルチジン等の 塩基存在下、 一 40〜+ 30°Cの温度で 1〜12時間作用させる。 化合物（F)を反応ルート 1の方法に従い、 例えば下記のごとく処 理することにより、 最終目的物質ザルコフィ トール Aを製造するこ とができる。
    [0226] 反応ルート 1の工程
    [0227] a) 化合物（G)の製造
    [0228] R8がトリメチルシリル基である化合物 （G) は例えば、 化合物 (F)に塩化メチレン、 クロ口ホルム、 酢酸ェチルなどの溶媒中又 は無溶媒で、 当量から 10当量のトリメチルシリル二トリルを触媒 量のシアン化金属一 18—クラウン一 6—エーテル錯体またはテト ラ n—プチルァンモニゥムシァニド等のアンモニゥム塩の存在下で、 -20〜50°Cで、 30分間〜 5時間作用させることにより製造す ることができる。 この化合物をテトラヒ ドロフラン、 メタノール等 の溶媒に溶解後、 0.1〜3規定の塩酸、 硫酸等の鉱酸水溶液を 0 °C〜室温で、 5分〜 5時間作用させる方法、 又はテトラヒ ドロフラ ン、 ジォキサン等の溶媒中、 一 20°C〜室温で、 触媒量から 10当 量のフッ化テトラプチルアンモニゥム等のテトラアルキルアンモニ ゥム類を作用させる方法などによって R 8が水素原子である化合物、 シァノヒ ドリン体を製造することができる。
    [0229] 化合物（G)の内、 R 8が 1ーェトキシェチル基で表される化合物 は、 前記シァノヒ ドリン体に、 ェチルエーテル、 酢酸ェチル等の溶 媒中、 当量〜 1 0当量のェチルビニルエーテルを触媒量の塩酸、 硫 酸等の鉱酸、 パラ トルエンスルホン酸等の有機強酸あるいはパラ ト ルエンスルホン酸のピリジニゥム塩等の強酸の塩の存在下、 _ 2 0 °C〜室温で、 3 0分〜 5時間作用させるなどの方法により製造する ことができる。
    [0230] b) 化合物（H )の製造
    [0231] 化合物（H)の内、 R 8がトリメチルシリル基又は 1—ェトキシェ チル基である化合物は、 化合物（G )の内、 R 8がトリメチルシリル 基あるいは 1一エトキシェチル基で表される化合物に、 ェチルエー テル、 テトラヒ ドロフラン等のエーテル系溶媒、 ベンゼン、 トルェ ン等の芳香族炭化水素系溶媒又は n—へキサン、 n—ヘプ夕ン等の飽 和炭化水素系溶媒中、 当量から 1 0当量のリチウムジイソプロピル アミ ド、 リチウムビス（トリメチルシリル）ァミ ド、 水素化ナトリウ ム等の塩基を、 一 70〜100°Cで、 5分〜 10時間作用させる方 法などにより製造することができる。
    [0232] 化合物（H)の内、 R8が水素原子である化合物は、 上で得た化合 物にテトラヒ ドロフラン、 メタノール等の溶媒中、 0.1〜3規定 の塩酸、 硫酸等の鉱酸水溶液を 0°C〜室温で、 5分〜 5時間作用さ せる方法、 又はテトラヒ ドロフラン、 ジォキサン等の溶媒中、 一 2 0°C〜室温で、 触媒量から 10当量のフッ化テトラプチルアンモニ ゥム等のテトラアルキルァンモニゥム類を作用させる方法などによ つて製造することができる。
    [0233] c) ケトン体（ J )の製造
    [0234] ケトン体（H)は、 化合物（H)において、 R8が水素原子で表され る化合物を、 そのェチルエーテル、 酢酸ェチル等の有機溶媒の溶液 で炭酸水素ナトリウム水溶液と 0°C〜室温で、 5分〜 5時間作用さ せるなどの方法で処理するか、 又は、 化合物（H)において R8がト リメチルシリル基で表される化合物を、 含水テトラヒ ドロフラン、 ジォキサン等の溶媒中、 触媒量から 10当量のフッ化テトラブチル アン乇ニゥム等のフッ化テトラアルキルアンモニゥム類を作用させ る方法などで処理することにより直接製造することができる。 d) ザルコフィ トール Aの製造
    [0235] ケトン体（ J )にェチルエーテル、 テトラヒ ドロフラン等のエーテ ル系溶媒、 ベンゼン、 トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒又は n— へキサン、 n—へプタン等の飽和炭化水素系溶媒中、 一 7 0 °C〜 5 0 °Cで、 水素化ジブチルアルミニウム等の金属水素化物、 水素化ァ ルミニゥムリチウム等の金属錯化合物を当量〜 1 0当量、 5分〜 5 時間作用させる方法などにより、 ザルコフィ トール Aを製造するこ とができる。
    [0236] また、 ケトン体（ J )を不斉修飾した金属水素化物あるいは金属水 素錯化合物を用いて不斉還元することにより、 天然型のザルコフィ トール Aを製造することもできる。
    [0237]
    [0238] 天然型ザルコフィ トール A 不斉還元反応において用いられる不斉修飾した金属水素化物ある いは金属水素錯化合物における不斉修飾剤としては、 例えば L一ま たは D—プロリン、 バリン等の光学活性ァミノ酸のカルボキシル基 を置換アルコール基または置換ァミノ基に変換することにより製造 した不斉ァミノアルコール類（Bull. Soc. Chiin. Belg. , 97, 6
    [0239] 91 (' 88) ; J . Chem. Soc. Perkin I , 1673 (' 83)参照） または不斉ジァミ ン類（Bull. C hem. So J apan, 51 , 1869 (' 78) ; Tetrahedron, _3 _, 4111 (' 81 )参照）、 L一また は D—メチルエフヱ ドリン等の不斉アル力ロイ ド（Chem. Pharm. B ull., 3_1, 837C 83)参照）、 あるいは（ S )—または（R)— 1 , 1'一ビス一 2—ナフ トール等が用いられる。
    [0240] 金属水素化物あるいは金属水素錯化合物としては水素化ジィソブ チルアルミニウム、 水素化アルミニウムリチウム、 水素化ホウ素ナ トリウム等が用いられ、 これらをジェチルエーテル、 テトラヒ ドロ フラン等のエーテル系溶媒； ベンゼン、 トノレェン、 η—へキサン等 の炭化水素系溶媒（金属水素化物の場合にはジクロロメタン、 クロ 口ホルム等のハロゲン系溶媒も使用できる。 ）中、 好ましくは 0 . 1 当量〜 5当量、 さらに好ましくは 0 . 5当量〜 1 . 5当量の上記の不 斉修飾剤と好ましくは一 5 0〜5 0 °C、 さらに好ましくは一 2 0 °C 〜室温で 1 0分〜 5時間反応させ、 さらに必要に応じてアルキル置 換ァニリン、 置換ァミノピリジン、 塩化スズ（ I )等の添加剤を加え ることにより不斉修飾剤が金属水素化物あるいは金属水素錯化合物 に配位した不斉還元剤を調整することができ、 具体例としては、 例 えば下記表 1の組み合わせを挙げることができる。
    [0241] (以下余白）
    [0242] 1555
    [0243] 上記構造式（J )の大環状ケトンに対して用いられる不斉還元剤の 使用モル比は特に制限はないが、 未反応原料の回収および収率の点 から 1〜2の範囲にあることが好ましい。 反応は通常不斉還元剤を 調整するのに用いた前記溶媒の存在下に、 好ましくは一 1 5 0〜1 0 0 °C、 さらに好ましくは一 1 0 0〜室温の反応温度で 1 0分〜 5 時間行われる。 用いる不斉修飾剤の絶対配置（L体由来または D体 由来）と生成物の絶対配置（天然型の I sまたは下記構造式で表され る非天然型の I R )との間には規則性はなく、 不斉修飾剤と金属水素 ' 化物あるいは金属水素錯化合物との組み合わせにより異なる。
    [0244] また、 本願発明の方法により副生する下記（I 式で表される非 天然型ザルコフィ トール Aを、
    [0245]
    [0246] 通常の水酸基をェピメ リ化する方法により、 反転し、 容易に天然型 光学活性ザルコフィ トール A ( I s)を製造することもできる。 (3) 一般式（I )において、 Rが
    [0247] R
    [0248] 一 CH=CHCHCH(CH3)2 (Rリま既に定義したとおりである）' nが 1で表される化合物を出発物質とする場合
    [0249] 反応ルート 3
    [0250]
    [0251] A （0 - C3H7)3 スルホニルエステル化
    [0252] エーテル化
    [0253] (0)
    [0254] [2, 3]Wittig転移
    [0255] ザルコフィ トール A
    [0256] R9 ： メタンスルホニル基又はパラ トルエンスルホニル基などの 置換スルホニル基
    [0257] 上記反応ルート 3における化合物（K)は、 例えば、 一般式（I)に おいて nが 1、 Rが
    [0258] CHO
    [0259] CH = CHCHCH(CH3)2および Xが水素原子で表される化合 物に、 ェチルエーテル、 テトラヒ ドロフラン等のエーテル系溶媒、 ベンゼン、 トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒又は n—へキサン、 n 一ヘプタン等の飽和炭化水素系溶媒中、 一 7 0〜5 0 °Cで、 水素化 ジブチルアルミニウム等の金属水素化物、 水素化アルミニウムリチ ゥム等の金属錯化合物を当量〜 1 0当量、 5分〜 5時間作用させる 方法、 あるいはメタノール、 エタノール等の溶媒中、 0 . 5〜1 0 当量の水素化ホウ素ナトリウム等の金属水素錯化合物を一 7 0〜1 0 o °cで作用させる方法等により製造することができる。
    [0260] 次いで、 化合物（L ) を得るには、 上記の方法で製造した化合物 (K)を、 例えばテトラヒ ドロフラン、 ジメ トキシエタン等の水と 混和する溶媒を含水状態で用いて、 0 . 1〜1当量の N—プロモス クシノイ ド、 N—クロロスクシノイ ミ ド等のハロゲン化剤を一 2 0 〜1 0 0 °Cで 3 0分〜 5時間作用させた後、 水酸化ナトリウム、 水 酸化カリウム、 炭酸ナトリウム等の塩基の水溶液で処理するか、 あ るいはハロヒ ドリ ン体を一旦取り出し、 これにメタノール、 テトラ ヒ ドロフラン等の溶媒中、 炭酸ナトリウム、 ナトリウムメ トキシド 等の塩基を作用させる方法によって、 又はジクロロメタン、 クロ口 ホルム、 酢酸ェチル等の溶媒中 0 . 1〜1当量のメタクロロ過安息 香酸、 過齚酸等の有機過酸を、 一 5 0〜 5 0 °Cで 3 0分〜 1 0時間 反応させる、 などの方法によってエポキシ化する。
    [0261] 化合物（M)は化合物（L )に、 例えばトルエン、 キシレン等の溶媒 中、 0 . 1〜1 0当量のアルミニウムトリイソプロボキシド等の金 属アルコキシドを 5 0〜2 0 0 °Cで作用させる、 又はジェチルエー テル、 テトラヒ ドロフラン等の溶媒中 0 . 1〜1 0当量のリチウム ジイソプロピルアミ ド、 リチウムジェチルアミ ド等の金属アミ ド類 を一 7 0〜1 0 0 °Cで作用させる、 等の方法により製造することが できる。
    [0262] 化合物（N )はジァリルアルコール体（M)のスルホニルエステル化 により製造される。 例えば化合物（M)にジクロロメタン、 クロロホ ルム等のハロゲン系溶媒又はジェチルエーテル、 テトラヒ ドロフラ ン等のエーテル系溶媒中、 0 . 1〜 1 0当量のトリェチルァミ ン、 ピリジン等の塩基存在下、 0 . 1〜1 . 5当量の塩化メタンスルホニ ル、 塩化パラ トルエンスルホニル等のハロゲン化置換スルホニルを 一 7 0〜： L 0 0 °Cで作用させる。 化合物（N)から（0)を得るには、 例えば化合物（N)にジェチルェ 一テル、 テトラヒ ドロフラン等のエーテル系溶媒、 ベンゼン、 トル ェン、 n—へキサン等の炭化水素系溶媒又はジメチルホルムアミ ド、 ジメチルスルホキシド等の非プロ トン性極性溶媒中、 0. 1〜10 当量の水素化ナトリウム、 水素化力リウム等の金属水素化物又は n 一ブチルリチウム、 ェチルマグネシウムクロリ ド等の有機金属を一 50〜150°Cで作用させる方法などを用いる。
    [0263] 得られた化合物（0)にジェチルエーテル、 テトラヒ ドロフラン等 のエーテル系溶媒、 ベンゼン、 トルエン、 n—へキサン等の炭化水 素系溶媒あるいはこれらにへキサメチルホスホトリアミ ド等を添加 した溶媒系中、 一 100〜100°Cで 0.：!〜 10当量の n—ブチル リチウム、 sec—ブチルリチウム、 リチウムジイソプロピルアミ ド 等の有機金属を作用させることによりザルコフィ トール Aを製造す ることができる。
    [0264] (4) 式（I )において、 尺が R1
    [0265] I
    [0266] -CH = CHCHCH(CH3)2 (R 1は既に定義したとおりである） - nが 0で示される化合物が出発物質である場合 (
    [0267] 反応ルート 4
    [0268] 異
    [0269] (B")
    [0270] Wittig反応
    [0271]
    [0272] 0号
    [0273] 記載のルート
    [0274]
    [0275] ザルコフィ トール A
    [0276] 上記反応ルート 4における化合物（A ")は、 上記のごとく、 一般 式（I )において R 1がー C N、 nが 0、 Xが水素原子で表される化合 物に、 例えばテトラヒ ドロフラン、 ジメ トキシェタン等の水と混和 する溶媒を含水状態で用いて 0 . 1〜1当量の N—プロモスクシノ イ ミ ド、 N—クロロスクシノイミ ド等のハロゲン化剤を、 一 2 0〜 1 0 0 °Cで 3 0分〜 5時間作用させ、 続いて水酸化ナトリウム、 水 酸化カリウム、 炭酸ナ トリウム等の塩基の水溶液で処理するか、 あ るいはハロヒ ドリン体を一旦取り出し、 これにメタノ一ル、 テトラ ヒ ドロフラン等の溶媒中、 炭酸ナトリウム、 ナトリウムメ トキシ ド 等の塩基を作用させる方法によって、 又はジクロロメタン、 クロ口 ホルム、 齚酸ェチル等の溶媒中、 0 . 1〜1当量のメタク口口過安 息香酸、 過酢酸等の有機過酸を、 一 5 0〜5 0 °Cで 3 0分〜 1 0時 間反応させるなどの方法によってエポキシ化することにより、 製造 することができる。
    [0277] 化合物（B")は、上で得たエポキシ体（A")に、 例えばトルエン、 キシレン等の溶媒中、 0.1〜10当量のアルミニウムトリイソプ 口ポキシド等の金属アルコキシドを 50〜200°Cで作用させるあ るいはジェチルエーテル、 テトラヒ ドロフラン等の溶媒中 0.1〜 10当量のリチウムジイソプロピルァミ ド、 リチウムジェチルァミ ド等の金属アミ ド類を一 70〜100°Cで作用させることにより製 造される。
    [0278] アルデヒ ド体（C") は、 化合物（B") に 0.1〜5当量の酢酸水 銀等の水銀塩の存在下、 1〜100当量のェチルビニルエーテル等 のアルキルビニルエーテルを 0〜100°Cにて作用させることによ る化合物（B") のビニルエーテル体を誘導するか、 あるいは化合物 (B")を文献既知 [ジャーナル 'ォブ ·オーガニック ' ケミストリー (J. Org. Chem. ), ^8., 5406 ( 1983 )]の方法に従い 3— アルコキシァク リル酸に導いた後、 触媒量のハイ ドロキノン等の存 在下 100〜250°Cに加熱する Claisen転位などの方法で処理す ることにより製造される。
    [0279] 化合物（D")は、アルデヒ ド体（C")に、例えば 0.5〜5当量の力 ルボメ トキシェチリデントリフヱニルホスホラン等の Wittig試薬 あるいは 2—（ジェチルホスホノ）一プロピオン酸ェチルエステル等 の Wittig— Horner試薬より調製したァニオンをジェチルエーテル、 THF、 DMF、 ジクロロメタン等の溶媒中、 一 50〜： 100°Cで 作用させる方法などにより製造される。
    [0280] 次いで、 この化合物（D")をジェチルエーテル、 THF等のエー テル系溶媒中、 0.5〜10当量の水素化アルミニウムリチウム等 の金属水素錯化合物と、 一 70〜100°Cで作用させる、 あるいは ベンゼン、 トルエン、 n—へキサン、 n—ペンタン等の炭化水素系溶 媒中、 0.5〜10当量の水素化ジブチルアルミニウム等の金属水 素化物と一 70〜100°Cで 5分〜 5時間作用させるなどの方法で 処理すると、 一般式（I)において尺が CHO
    [0281] -CH = CHCHCH(CH3)2 、 nが 1および Xがヒ ドロキシル基 で表される化合物、 前述の化合物（E")を導くことができる。 これ は、 ルート 2の E'と同一物質である。
    [0282] 化合物（E")を前記反応ルート 2に関して述べたと同様の方法に よりァリルアルコールをァリル転位することなくハロゲン原子に変 換すると、 化合物（F)が得られる。 次いで、 既述の方法に従って化 合物（F)からザルコフィ トール Aを製造することができる。
    [0283] 上記のごとく、 本発明化合物（I)から反応ルート 1の化合物（F) を経由し、 または経由せずに、 ザルコフィ トール Aを得ることがで き、 それらの合成ルートはザルコフィ トール A製造のための工業上 優れたルートである。 従って本発明化合物は、 ザルコフィ トール A の効率的な工業生産を可能ならしめる重要な合成中間体である。 以下に実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、 これら実 施例はいかなる意味においても、 本発明を制限することを意図した ものではない。 合成例 1
    [0284] OCOCHs 0C0CH3
    [0285] 8—ァセトキシー 2, 6—ジメチルー 2, 6—才クタジェン一 1一 オール（1, 819， 8.52mmol)、 ジヒ ドロピラン（ 1. 17 ， 12. 8mmol)のジクロロメタン溶液（6n を撹拌し、 これにパラ トルェ ンスルホン酸（4 を加え、 室温で 3 0分間撹拌した。 反応溶液 に飽和重ソゥ水（3 Οι^)を加え、 生成物をへキサン一エーテル（5 /1, 2 X 30 で抽出した。 抽出液を無水硫酸ナトリウム上で乾 燥後、 減圧下溶媒を留去し、 得られる残渣をシリカゲルカラムクロ マトで精製すると 1—ァセトキシ一 8—（2—テトラヒ ドロビラ二 ル）ォキシ一 3, 7—ジメチルー 2, 6—才クタジェン（2.42 , 9 6%)が得られた。
    [0286] 合成例 2 > H3C0H2C0
    [0287]
    [0288] OCOCHs OCOCHs 8—ァセトキシー 2, 6—ジメチルー 2, 6—ォクタジェン一 1一 オール（1 1 0B9, 0. 52mmol)、 トリェチルァミ ン（0.25 1. 83mmol)、 クロメチルーメチルエーテル（ 0.069 a 0.92 mmo 1)のァセトニトリル溶液（2 a を撹拌しながら 4時間還流させた。 反応溶液に水（3«^)を加え、 生成物をエーテル（5 で数度抽出し た。 抽出液を乾燥（無水硫酸マグネシウム）し、 減圧下溶媒を留去し た後、 得られる粗精製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ一に 付し、 求める 1ーァセトキシー 8—（メ トキシメチル）ォキシ一 3, 7—ジメチルー 2， 6—才クタジェン（109 ， 82%)を得た。 合成例 3
    [0289] 8—ァセトキシー 2, 6—ジメチルー 2, 6—ォクタジェン一 1一 オール（526 «9, 2.48mmol)のジメチルホルムァミ ド溶液（4¾^) を氷浴上撹拌し、 ィミダゾール（338 ， 4. 96mniol)およびク口 口ジメチルターシャリーブチルシラン（41 O ng, 2. 73mmol)を加 え、 反応溶液を室温で 1時間撹拌した。 反応液に水（3 を加え、 生成物をへキサン（2 O u£x 2)で抽出した。 抽出液を乾燥（無水硫 酸マグネシウム）後、 減圧下溶媒を留去し、 残渣をシリカゲルクロ マトグラフィ一に付すと求める 1ーァセトキシー 8—（ジメチルタ ーシャ リーブチルシリノレ）ォキシ一 3， 7—ジメチルー 2, 6—ォク タジェン（606 ， 75%)が得られた。
    [0290] (以下余白）
    [0291] 実施例 1 窒素雰囲気下、 1—ァセトキシー 8—（2—テトラヒ ドロピラニ ル）ォキシ一3, 7—ジメチルー 2, 6—才クタジェン（1.08 , 3. 64mmol)のテトラヒ ドロフラン溶液（6 に、 トリフヱニルホス フィ ン（1 0 5*9, 0. 4n9)およびテトラキス（トリフヱニルホスフ ィ ン）パラジゥム（168 0. 15mmol)を加え、 室温で 15分間 撹拌した。 この混合液に水素化ナトリウム（305Β , 12.7 mmol) とァセト酢酸メチゾレ（1. 5 7ι^， 1 4. 6 mmol)より調製したァセト 齚酸メチルのナトリウム塩のテトラヒ ドロフラン溶液（2 5 m ^を加 え、 反応混合液を 5時間還流させた。 反応液に水（1 およびェ 一テル（3 を加え、 よく撹拌した後、 有機層を分離した。 水層 をエーテル で抽出し、 抽出液を無水硫酸ナトリウム上で乾燥 した。 減圧下溶媒を留去し、 得られる残渣をシリカゲルカラムクロ マトにより精製すると求めるメチル 2—ァセチル一 5, 9—ジメチ ルー 10—（2—テトラヒ ドロビラニル）ォキシ一 4, 8—デカジェ ネート（1.069, 83%)が得られた。
    [0292] I R (フィルム） cur1 ； 2950, 2870, 1750, 1722, 1 440, 1360, 1201, 1150.1022.
    [0293] NMRCCD C£3, 250ΜΗζ)<5ρριπ； 1.45〜1.92(m, 6Η, C (0)H2 - CH2- CH2- CH2- CHO-), 1.63, 1.65 (2 s, 6 H, 2
    [0294] CH-CH2-CH2-C = CH-), 2.22 (s, 3H, CH3C = 0), 3.46 (t, J = 7.5 Hz, 1 H, -CHC 02-), 3.53 (m, 1 H, - CH2- CHaHb-O-), 3.73 (s, 3H, C02CH3), 3.83, 4. 09 (2d, J = 11.8 Hz, 2H,-OCH2C = CH-), 3.82〜 3.94 (m, lH,-CH2-CHaHb-0-), 4.60 (t, J = 3.4 Hz, 1 H, - OCHO-), 5.04 (t, J == 7.3 Hz, 1 H, -C = C H— CH2—）， δ.38 (ΐ, J = 6.2 Hz, 1 H, -C = CH - CH2 -). 実施例 2 窒素雰囲気下、 1—ァセトキシー 8—（メ トキシメチル）ォキシ一 3, 7-ジメチルー 2, 6—ォクタジェン（60 2.34minol)の テトラヒ ドロフラン溶液（6 に、 トリフエニルホスフィ ン（6 OB 9, 0.23inmol)およびテトラキス（トリフェニルホスフィ ン）パラジ ゥム（108B9， 0.09ππηο1)を加え、 室温で 15分間撹拌した。 こ の混合液に水素化ナトリウム（225 «9, 9.36ππηο1)とァセト詐酸 メチゾレ（1.26« 1 1. 7mmol)より調製したァセト詐酸メチルの ナトリゥム塩のテトラヒ ドロフラン溶液（2 を加え、 反応混合 液を 2時間還流させた。 反応液に水（4 0« ）およびエーテル（5 OB を加え、 よく擅拌した後、 有機層を分離した。 水層をエーテル（ 50» ）で抽出し、 抽出液を無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。 減 圧下溶媒を留去し、 得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトによ り精製すると求めるメチル 2—ァセチルー 5, 9—ジメチルー 10 一（メ トキシメチル）ォキシ一 4, 8—デカジェネート（67 On , 9 2%)が得られた。
    [0295] I R (フィルム） cnr1 ； 2930, 1745, 1720, 1438, 1 355， 1208， 1150， 1100， 1040， 920.
    [0296] JH NMRCCD Ci3, 250MHz)(5ppm； 1.63, 1.65(2 s， 6 H， CHsC = CH-x 2), 1.93〜2.17(m， 4H，— C = CH - CH2- CH2-C = CH-), 2.22 (s, 3H, COCH3), 2.5 6 (t， J = 7.4 Hz, 2 H， -C = CH-CH2-CH(C02CH3) 一）， 3.38(s, 3H, CHsOCHzO-). 3.46 (t, J = 7.5 Hz, IH, CH(C02CH3)), 3.73(s, 3H, CO2CH3), 3.92(s, 2H, -OCHzC^CH-), 4.61 (s, 2 H,— 0 C O—）， 5. 04 (t, J == 7.3 Hz, 1 H, -C = CH-CH2-), 5.38 (t, J = 6.7Hz, 1H,-C = CH-CH2-).
    [0297] 実施例 3 窒素雰囲気下、 1—ァセトキシー 8—（ジメ トキシターシャリー プチルシリル）ォキシ一 3， 7—ジメチルー 2, 6—ォクタジェン（6 00 » , 1.84mmol)のテトラヒ ドロフラン溶液（5 に、 トリフ ヱニルホスフィ ン（47 «9, 0. 18ιηπιο1)およびテトラキス（トリフ ヱニルホスフィ ン）パラジゥム（8 0.07mmol)を加え、 室温 で 15分間撹拌した。 この混合液に水素化ナトリウム（92 9, 8. Ommol)とァセト齚酸メチノレ（0.99 , 9.20 mmol)より調製した ァセト醉酸メチルのナトリウム塩のテトラヒ ドロフラン溶液（20m ）を加え、 反応混合液を一晚還流させた。 反応液に水（10m およ びエーテル（30« を加え、 よく撹拌した後、 有機層を分離した。 水層をエーテル（5 X 2)で抽出し、 抽出液を無水硫酸ナトリウム 上で乾燥した。 減圧下溶媒を留去し、 得られる残渣をシリカゲル力 ラムクロマトにより精製すると求めるメチル 2—ァセチルー 10 一（ジメチルターシャリーブチルシリル）ォキシ一 5， 9ージメチル 一 4, 8—デカジェネート（620 «9, 88%)が得られた。
    [0298] I R (フィルム） cm—1 ； 2970, 2940, 2910, 2860, 1 745, 1722, 1435, 1360, 1250， 1065, 837， 775.
    [0299] JH NMRCCD C 3, 250MHz)5ppm； 0.06, (s, 6H, (C H3)2Si), 0.90 (s, 9 H, (CH3)3C Si), 1.59， 1.63 (2s， 6H, 2 x CH3C = CH-), 1.92〜2.15(m, 4H, - C = C H- CH2-CH2-C = CH-), 2.22 (s, 3 H,— CHCH3), 2.55 (t, J = 7.4 Hz, 2H, -C = CH-CH2-CH(C02C H3))， 3.46(t, J = 7.4 Hz, 1 H, - C H (C 02 C H 3)), 3.7 3(s, 3H, -CO2CH3), 3.99 (s, 2H, SiO CH2), 5.04(t, J = 6.7 Hz, 1 H, -C = CH-CH2-), 5.33 (t, J = 6.8 H z, 1H,-C = CH-CH2-).
    [0300] 実施例 4 メチル 2—ァセチル一 5， 9一ジメチルー 10— (2—テトラヒ ドロビラニル）ォキシ一 4, 8—デカジエネート（370 ， 1.05m mol)のジメチルスルホキシド溶液 に塩化ナトリウム（180m 9， 3.08mmol)および水（0.1» を加え、 150°Cで撹拌した。 4時間後、 反応混合物を室温に戻し、 水（15^)を加え、 生成物を エーテル（2 2)で抽出した。 抽出液を乾燥（無水硫酸ナトリ ゥム）後、 濃縮し、 得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ卜で精 製すると求める 6, 10—ジメチルー 11一（2—テトラヒ ドロビラ ニル）ォキシ一 5, 9—ゥンデカジエン一 2—オン（70%)が得られ た。
    [0301] I R (フィルム） cnr1 ； 2950, 2880, 1720, 1442, 1 358， 1120， 1078， 1024， 905, 870, 815.
    [0302] JH NMRCCD Ci3, 250MHz)<5ppm； 1.45 ~ 1.90 (m, 6H.— OCH2— CH2— CH2—CH2— CH(O)), 1.62.1.6
    [0303] 5 (2s, 6 H, (CH3)C = CH - CH2- CH2-(CH3)C = CH 一）， 1.96〜2.20(m, 4H,— C = CH— CH2— CH2-C = C
    [0304] H-), 2.14 (s, 3 H, C 0 CH3), 2.26 (q, J = 7.1 Hz, 2 H, 一 C = CH— CH2— CH2CO—)， 2.46(t, J = 7.1Hz, 2H,
    [0305] CH2COCH3), 3.45〜3.55(m, lH, OCHaHb— CH2 一 CH2— CH2— CH(O)), 3.84, 4.10 (2d， J = 11.5 Hz,
    [0306] 〇CH2C = CH— )， 3.80〜3.95(m, lH, OCHaHb-C
    [0307] H2-CH2-CH2-)( 4.60 (t， J = 3.6 Hz, 1 H, CH(0))，
    [0308] 5.08(t, J = 7.1Hz, -C = CH-CH2-CH2-C = CH-),
    [0309] 6.9(t, J = 6.9Hz, 1H,-C = CH-CH2-CH2-C = CH 一）.
    [0310] 実施例 5
    [0311] メチル 2—ァセチルー 5, 9—ジメチルー 10—（メ トキシメチ ル）ォキシ一 4, 8—デカジエネー ト（428 ， 1.37mmol)のジメ チルスルホキシド溶液（4 に塩化ナトリウム（160 ， 2.74m mol)および水（0.1»^)を加え、 150°Cで撹拌した。 5時間後、 反応混合物を室温に戻し、 水（10« を加え、 生成物をエーテル（ 2 2)で抽出した。 抽出液を乾燥（無水硫酸ナトリウム）後、 濃縮し、 得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ卜で精製すると求 める 6， 10—ジメチルー 11— (メ トキシメチル）ォキシ一 5, 9一 ゥンデカジエン一 2—オン（358B9, 67%)が得られた。
    [0312] I R (フィルム） cnr1 ； 2940, 1720, 1440, 1358, 1 150， 1100， 1050， 920.
    [0313] 1H NMR(CD Ci3, 250MHz)5ppm； 1.62, 1.66(2 s, 6H, 2 x CH3C = CH-), 1.94〜2.32(m, 6H,— C = CH -CH2-CH_2-C = CH-CH2-), 2.14(s, 3H， COCH3), 2.46(t, J = 7.3Hz, 2H,-CH2COCH3), 3.38(s, 3H, CHsO), 3.92 (s, 2 H, 0 CH2C = CH-), 4.61 (s, 2H, - OCH2C—）， 5.08(t, J = 6.1Hz, 1H,-C = CH-CH2 1555
    [0314] -), 5.40 (t, J = 6.7Hz, 1 H, -C = CHCH2-).
    [0315] 実施例 6
    [0316] C02CH3 メチル 2—ァセチルー 10—（ジメチルーターシャリ一ブチルシ リル）ォキシ一 5, 9—ジメチルー 4, 8—デカジエネー ト（96ng,
    [0317] 0.25mmol)のへキサメチルホスホリ ック トリアミ ド溶液（0.5
    [0318] )にヨウ化ナトリウム（45 «9, 0.300111101)ぉょび水（0.01")を 加え、 150°Cで撹拌した。 2時間後、 反応混合物を室温に戻し、 水（2ι^)を加え、 生成物をエーテル（5WX 2)で抽出した。 抽出液 を乾燥（無水硫酸ナトリウム）後、 濃縮し、 得られる残渣をシリカゲ ルカラムクロマトで精製すると求める 6， 10—ジメチルー 11一（ ジメメチルーターシャリーブチルシリル）ォキシーゥンデカジェン
    [0319] 一 2—オン（57 70%)が得られた。
    [0320] I R (フィルム） cm— 1 ； 2970, 2950, 2910.2870, 1 725, 1465, 1360, 1255, 1155， 1110, 1070， 837, 775, 662.
    [0321] JH NMR(CDC 3, 2 δ 0MHz)(5ppm; 0.06 (s, 6 H, (C H3)2Si), 0.91 (s, 9H, (CH3)3C Si), 1.59, 1.62 (2s，
    [0322] 6 H, 2 x-C = CH-CH2-), 1.92〜2.32(m, 6H,— CH = CH-CH2-CH2-C = CH-CH2-), 2.14 (s, 3 H, CO CH3), 2.46(t, J = 8.7Hz, 2H, CH2COCH3).4.00(s, 2H, S1OCH2-). δ.08, 5.35 (2m, 2H,-C = CH-C H2-x 2).
    [0323] 実施例 7および 8
    [0324] 原料物質としてメチル 2—ァセチルー 5, 9—ジメチルー 10— ァセ トキシー 4, 8—デカジェネートまたはメチル 2—ァセチルー 5， 9—ジメチルー 10—（ベンゾィル）ォキシ 4, 8—デカジエネー トを用いた他は実施例 4〜6と同様の方法により 6, 10—ジメチ ルー 11ーァセトキシー 5， 9一ゥンデカジエンー 2—オンおよび 6, 10-ジメチルー 11一（ベンゾィノレ）ォキシ一 5, 9—ゥンデ力 ジェン一 2—オンを合成した。
    [0325] 実施例 9
    [0326] 6, 1 0—ジメチルー 1 1— (2—テトラヒ ドロビラニル）ォキシ 一 5, 9一ゥンデカジエンー 2—オン（3 6 2 1. 2 3龍 ol)のメ タノール（ 5 »1 および水（ 1 の混合溶液にパラ トルエンスルホン 酸（2 On を加え室温で一晩撹拌を行なった。 飽和炭酸水素ナトリ ゥム水溶液（2 O B を加え、 生成物を酢酸ェチル（2 O x 2)で抽 出した。 抽出液を乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、 溶媒を減圧下留 去し、 得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ一に付す と、 2, 6—ジメチルー 2, 6—ドデカジェン一 1 0—オン一 1一才 ール（2 3 4 «9, 9 0 %)が得られた。
    [0327] I R (フィルム） cm—1 ； 3 4 3 0, 2 9 3 0, 2 8 6 0, 1 7 1 5, 1 4 4 0, 1 3 6 0, 1 1 6 0, 1 0 8 0.
    [0328] NMRCCD C 3+D20, 2 5 0ΜΗζ) < ρριη； 1. 6 2, 1. 66(2s, 6H, 2xCli3C = CH一）， 1.98〜2.34(m, 6H, 一 C = CH— CH2— CH2— C = CH— CH2— ), 2.13(s, 3H;
    [0329] CO CH3).2.47 (t, J = 7.2Hz, 2H, - CH2C 0 CH3), 3
    [0330] 98 (s, 2H, - CH,OH), 5.06 (t, J = 7.1 Hz, 1 H, -C =
    [0331] CH-CH2-), δ.33(ΐ, J = 6.9Hz, 1H,-C = CH-CH
    [0332] ―).
    [0333] 実施例 10
    [0334] アルゴン雰囲気下、 ケトン体 [6, 10—ジメチルー 11一（2— テトラヒ ドロビラニル）ォキシ一 5, 9—ゥンデカジエンー 2—オン
    [0335] ](90«9， 0.3 lmmol)のテトラヒ ドロフラン溶液（5^)を氷浴上 撹拌し、 これにリチウムァセチリ ド エチレンジアミ ン錯体（18
    [0336] 0»9, 1.95mmol)を加えた後、 室温に昇温し、 3時間撹拌した, 反応混合液に塩化アンモニゥム飽和水溶液（2 を加えエーテルで 抽出した。 抽出液を無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、 減圧下溶媒を 留去し、 得られる粗精製物をシリカゲルカラムクロマトで精製する と 3, 7, 1 1— トリメチルー 12—（2—テトラヒ ドロビラニル）ォ キシー 6, 10—ドデカジェン一 1—イン一 3—オール（75 ， 7
    [0337] 5%)が得られた。
    [0338] I R (フィルム） cur1 ； 3440, 3320, 2950, 2880, 2 200, 1440, 1450, 1382, 1 360, 1260, 1200, 1 180， 1 1 15, 1075, 1020, 905， 865, 8 10. lE NMR(CDC 3, 250MHz)5ppm； 1. 50 (s, 3H, CH sCCOH)), 1.45〜1.90 (m， 8 H, 0 C H 2- C H_2- C H^- C |i2-CH(0), -CH2C(OH), 1.65(s, 6H, 2 x CH3C = C H—）， 2.00〜2.40 (m, 7H，一 C = CH— CH2— CH2-C = CH-CH2-, OH), 2.46 (s, 1 H,— Cョ C一 H), 3.45〜3. 57 Cm, 1 H, -OCHaHb-CH2-), 3.84, 4. 10(2d, J = 1 1.5H2, 2H, OCH2C = CH— ), 3.80〜3.94 (m， l H, -O CHaHb-CH2-), 4.60 (t, J = 3.4 Hz, 1 H, - 0 C H O— ), 5. 19 (t J = 6. 7 Hz, 1 H,— C = CH— CH2—）， 5.4 (t, J = 6.7Hz, 1H,-C = CH-CH2-).
    [0339] 実施例 1
    [0340] アルゴン雰囲気下、 ケトン体 [6, 10—ジメチル一 11一（メ ト キシメチル）ォキシ一 5, 9—ゥンデカジエン— 2—オン] (67ng,
    [0341] 0.26nimol)のテトラヒ ドロフラン溶液（ 2 を氷浴上撹拌し、 こ れにリチウムァセチリ ド エチレンジアミン錯体（30 n9, 0.33m mol)を加えた後、 室温に昇温し、 3時間撹拌した。 反応混合液に塩 化ァンモニゥム飽和水溶液（2B を加えエーテルで抽出した。 抽出 液を無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、 減圧下溶媒を留去し、 得られ る粗精製物をシリカゲルカラムクロマ卜で精製すると 3， 7, 11- トリメチルー 12— (メ トキシメチル）ォキシ一 6, 10-ドデカジ ェンー 1一イン一 3—オール（61 « ， 83 が得られた <
    [0342] I R (フィルム） cnr1 ； 3450, 3300, 2940, 1445
    [0343] 370, 1148, 1045, 918. JH NMRCCD C 3, 250MHz)<5ppm； 1.05 (s, 3 H, C
    [0344] H3C(0))， 1.55〜1.84(m, 9H, 2 x CH3C = CH—，〇H),
    [0345] 2.00〜2.400n, 6H,— C = CH— CH2— CH2— C = CH—
    [0346] CH2_), 2.46(s, lH,— C≡C— H), 3.78 (s, 3H, CH
    [0347] 0), 3.92 (s, 2H, - 0 CH2C = CH-), 4.61 (s, 2 H, 0 C
    [0348] H20), 5.19( J = 6.2Hz, 1 H,一 C = C H一 C H 2-)， 5.4
    [0349] 1 (t, J = 6.2 Hz，一 C = CH— CH2—）.
    [0350] 実施例 12
    [0351] アルゴン雰囲気下、 ケトン体 [6, 10—ジメチル一 11一（ジメ チルータ—シャリーブチルシリノレ）ォキシ一 5, 9一ゥンデ力ジェン オン] (71 «9， 0.22mmol)のテトラヒ ドロフラン溶液
    [0352] )を氷浴上撹拌し、 これにリチウムァセチリ ド エチレンジアミ ン錯 体（90 ， 0.98 01)を加えた後、 室温に昇温し、 4時間撹拌し た。 反応混合液に塩化アンモニゥム飽和水溶液 を加えエーテ ルで抽出した。 抽出液を無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、 減圧下溶 媒を留去し、 得られる粗精製物をシリカゲルカラムクロマ卜で精製 すると 3, 7， 11ー トリメチルー 12— (ジメチル一ターシャリ一 プチルシリル）ォキシ一 6， 10-ドデカジェン一 1一イン一 3—才 —ル（51 M9, 67%)が得られた。
    [0353] I R (フィルム） cm— 1 ； 3450, 3320, 2960, 2940, 2 910， 2860， 1460, 1360， 1250, 1110, 1065,
    [0354] 835, 775.
    [0355] XH NMR(CD C^s, 250MHz)( ppm; 0.06 (s, 6H,(C H3)2Si), 0.9 l(s, 9H,(CH3)3Si), 1.50(s, 3H,-CH2 — C(OH)(C 3)— Cョ CH), 1.59, 1.66 (2s, 6H, 2xC H3C = CH— )， 1.68〜1.76 n, 2H, - CH2C(OH) -）， 1.
    [0356] 94〜2.36 On, 7 H,— C = C H— C H 2— C H 2— C = C H— C H2-, OH), 2.46(s, 1H,-C≡CH), 4.00(s, 2H, OC H2-C = CH-), δ.19(t, J = 7.1Hz, 1H, -C = CH- C H2—）， 5.36 (t, J = 6.9 Hz, 1 H，一 C = CH— CH2—）. 実施例 13および 14
    [0357] 原料物質として 6, 10—ジメチルー 11ーァセトキシー 5, 9— ゥンデカジエンー 2—オンまたは 6, 10—ジメチルー 11一（ベン ゾィル）ォキシ一 5， 9一ゥンデカジエンー 2—オンを用いた他は実 施例 11と同様の方法により 3， 7, 11— トリメチルー 12—ァセ トキシー 6， 10— ドデカジェン一 1一イン一 3—オールおよび 3, 7, 11— トリメチルー 12—（ベンゾィル）ォキシ一 6, 10— ドデ カジエン一 1一イン一 3—オールを合成した。
    [0358] 実施例 15
    [0359] 原料物質として 2, 6—ジメチルー 2, 6—ドデカジエンー 10— オン一 1一オールを用いた他は実施例 10, 12と同様の方法によ り 2, 6, 10 - トリメチル一 2, 6 - ドデカジェン一 11一イン一 1, 10—ジオールを合成した。
    [0360] 実施例 16
    [0361]
    [0362] アルゴン雰囲気下、 ケトン体 [6, 10—ジメチルー 11一（2— テトラヒ ドロビラニル）ォキシ一 5, 9—ゥンデカジエンー 2—オン ](8 Ong, 0.27mniol)のテトラヒ ドロフラン溶液（ 3 を氷浴上 撹拌し、 これにビニルマグネシウムブロミ ド テトラヒ ドロフラン 溶液（0.3J^， 0.3mmol， 1.0M)を加えた後、 室温に昇温し、 1 0時間撹拌した。 反応混合液に塩化ァンモニゥム飽和水溶液（2 を加えエーテルで抽出した。 抽出液を無水硫酸ナトリウム上で乾燥 後、 減圧下溶媒を留去し、 得られる粗精製物をシリカゲルカラムク ロマ卜で精製すると 3, 7, 11— トリメチルー 12— (2—テトラ ヒ ドロビラニル）ォキシ一 1, 6, 10—ゥンデ力 トリェン一 3—才 ール（6 lng, 70%)が得られた。
    [0363] I R (フィルム） cm—1 ； 3460, 2950, 2880, 1200, 1 118， 1075， 1022， 905， 865， 810.
    [0364] JH NMRCCD Ci3, 250MHz)5ppm； 1.28(s, 3H, C( OH)CH3), 1.65〜1.92(m， 8 H, - 0 C H 2- C H 2- C H 2 一 CH2— CH(O)—， CH2— C(OH))， 1.95〜 2.40 (m, 7 H, C = CH - CH2- CH2- C = CH-CH2-, OH), 3.45〜 3
    [0365] 55 On, 1 H,— 0 CHaHb— CH2—）， 3.84, 4.10 (2d, J =
    [0366] 1.6Hz, 2H，— OCH2C = CH2— )， 3.80〜3.95(m,
    [0367] H,— 0 CHaHb— CH2—）， 4.60 ( J = 3.4 Hz, 1 H, 0 C H
    [0368] (0)), 5.06 (dd, J =1.3, 10.7 Hz, 1 H, - C H = C HaHb),
    [0369] 5.14(m, 1H，一 C = CH— CH2—）， 5.22 (dd, J = 1.3
    [0370] 7.4 Hz, 1 H，一 CH = CHaHb), 5.41 (t, J = 6.3 Hz， 1 H,
    [0371] C = CH-CH2~), 5.92 (dd, J = 10.7 , 17.4 Hz, 1 H,
    [0372] -CH = CH2).
    [0373] 実施例 1 Ί
    [0374] アルゴン雰囲気下、 ケトン体 [6, 10—ジメチルー 11一（メ ト キシメチル）ォキシ一 5, 9—ゥンデ力ジェン一 2—オン] (6 On ,
    [0375] 0.24mmol)のテトラヒ ドロフラン溶液（ 2 を氷浴上撹拌し、 こ れにビニルマグネシウムプロミ ド テトラヒ ドロフラン溶液（1.0 «i, 1. Ommol, 1. OM)を加えた後、 室温に昇温し、 4時間撹拌し た。 反応混合液に塩化ァンモニゥム飽和水溶液（2 を加えエーテ ルで抽出した。 抽出液を無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、 減圧下溶 媒を留去し、 得られる粗精製物をシリカゲルカラムクロマ卜で精製 すると 3, 7, 11—トリメチル一12— (メ トキシメチル）ォキシ一 1, 6, 10-ドデカ トリエンー 3—オール（54 tig, 80%)が得ら れた。
    [0376] I R (フィルム） cm—1 ； 3480， 2940, 1450， 1370, 1 210， 1150, 1100, 1045, 920, 845, 685.
    [0377] 1H NMR(CDCi3> 250MHz)5ppm； 1.28 (s， 3H， C HsC(OH)), 1.60, 1.66 (2s, 6H, 2 x CH3-CH=C-), 1.52〜1.72 On, 2H，一 CH2-C(OH)), 1.95-2.20 (m, 7H,— C = CH— CH2— CH2— C = CH— CH2—， OH), 3. 38(s, 3H, CH30), 3.92 (s, 2H，一 OC且 2C = CH—）， 4. 61(s, 2H,—OCH20—）， 5.06 (dd, J = 1.3 , 10.7 Hz, 1 H， -CH = CHaHb), δ .14 (t, J = 7.2 Hz, 1 H, - C = C H-CH2-), 5.20 (dd, J = 1.3, 17.4 Hz, 1 H, - CH= C HaHfa), 5.4 l(t, J = 6.9 Hz, 1 H，一 C = C H— C H 2—）， 5. 92 (dd, J = 10.7, 17.4Hz, l H,-CH=CH2-).
    [0378] 実施例 18
    [0379] アルゴン雰囲気下、 ケトン体 [6, 10—ジメチルー 11一（ジメ チルーターシャリ一プチルシリル）ォキシ一 5， 9一ゥンデ力ジェン — 2—オン] (48 ， 0.15mmol)のテトラヒ ドロフラン溶液（2 π )を氷浴上撹拌し、 これにビニルマグネシウムブロミ ド テトラヒ ド 口フラン溶液（1 1. Onimol, 1.0M)を加えた後、 室温に昇温 し、 4時間撹拌した。 反応混合液に塩化アンモニゥム飽和水溶液（ 2ι^)を加えエーテルで抽出した。 抽出液を無水硫酸ナトリウム上 で乾燥後、 減圧下溶媒を留去し、 得られる粗精製物をシリカゲル力 ラムクロマ卜で精製すると 3, 7， 11ートリメチルー 12—（ジメ チルーターシャリ一プチルシリノレ）ォキシ一 1, 6, 10—ドデカ ト リエンー 3—オール（32 κ9.60 %)が得られた。
    [0380] I R (フィルム） cm—1 ； 3420, 2970, 2940, 2860, 1 462, 1360， 1250， 1150， 1070， 920， 835, 7 75, 662.
    [0381] NMRCCD C 3.250MHz)<5ppm； 0.06(s, 6H,(C H3)2Si), 0.9 l(s， 9H，（CH3)3CSi), 1.28(s, 3H,— C( OH)(CH3)-CH=CH2), 1.60(s, 6H, 2x CH3C = CH 一）， 1.46〜： L.73 (m, 3 H，― C H 2C (OH)(C H3))— , 4.0 0(s, 2H, SiOCH 2— )， 5.06 (dd, J =1.3, 10.7Hz, 1H, - CH = CHaHb), 5.14 (m, 1 H, - C = CH- CH2-), 5.2 2 (dd, J = 1.3, 17.4 Hz, 1 H, - C H = C HaHb), δ .36 (m, 1H，一 C = C旦ー CH2—）， 5.92(dd, J = 10.7 , 17.4 Hz, 1H,-CH=CH2-).
    [0382] (以下余白） 実施例 19
    [0383] 原料物質として 6, 10-ジメチルー 11—ァセトキシー 5, 9— ゥンデカジエンー 2—オンまたは 6, 10—ジメチルー 11一（ベン ゾィル）ォキシ一 5, 9—ゥンデカジエンー 2—オンを用いた他は実 施例 16と同様の方法により 3, 7, 11— トリメチルー 12—ァセ トキシ一 1, 6, 10—ゥンデ力 トリェンー 3—オンおよび 3， 7, 1 1ー トリメチルー 12—（ベンゾィノレ）ォキシ一 1, 6， 10—ゥンデ 力 トリエン一 3—オンを合成した。
    [0384] 実施例 20
    [0385] 原料物質として 2, 6—ジメチルー 2, 6— ドデカジエン一 10— オン一 1—オールを用いた他は実施例 17, 18と同様の方法によ り、 2, 6, 10— トリメチルー 2, 6, 11-ドデカ トリェンー 1 , 10—ジオールを合成した。
    [0386] 実施例 21
    [0387] CH0
    [0388] アルゴン雰囲気下、 2—（ジェチルホスホノ）一イソバレロ二トリ ル（6.5 A 9, 3 Ommol)のトルエン溶液（55^)に力リゥムビス（ト リメチルシリル）ァミ ドの 0.5Mトルエン溶液 5 を一 70。C浴 上撹拌しながら加えた。 30分後、 撹拌を続けながら同温度でゲラ 二アール（3.80g, 25mmol)を加え室温にまで昇温した。 この反 応混合物に水を加え、 有機層を抽出し、 得られた有機層を飽和炭酸 水素ナトリゥム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネ シゥムで乾燥し、 濾過後、 濃縮により得た残渣をシリカゲルカラム クロマトグラフィ一（展開液； n—へキサン：齚酸ェチル = 100 ： 1)に付し、 目的とする 2—（1一メチルェチル）ー 5, 9—ジメチル 2, 4, 8—デカ トリェンニト リル（4.8 90%, 2 Z： 2 E = 2 2.4 : 1)が得られた。 2 Z体のスぺク トルデータを以下に示す。
    [0389] I R (フィルム） cm—1 ； 2980, 2940, 2890, 2220, 1 640， 1450, 1390, 1375, 1295, 1225， 1105， 1030.
    [0390] JH NMR(CDC 3, 250 MHz)5ppm ; 1.17 (d, J = 6.8 Hz, 6H, CH(CH3)2), 1.61, 1.69(各々ゎ5,各々 31^,—じ = CCH3), 1.83(d, J-l.2Hz, 3H,— C = CCH3), 2.1 〜 2.2 On, 4 H,— CH2CH2—）， 2.53 (hep, J = 6.8 Hz, 1 H, CH(CH3)2), δ.08(m, 1H,-C = CHCH2-), 6.28, 6. 82(各々 d, J = 11.5Hz，各々 1H, = CH— CH = ).
    [0391] 実施例 22
    [0392] 2—（1ーメチルェチル）一 5， 9ージメチル 2, 4, 8—デカ ト リ ェンニトリル（2 Z体， 21 I g, 1読 ol)の n—へキサン 4m溶液に アルゴン雰囲気下、 一 Ί 0°Cにて水素化ジィソブチルアルミニウム の 1Mトルエン溶液 2ΪΙ をかきまぜながら滴下した。 同温度で 1時 間後、 水 0. を加え、 浴をはずした後、 よく撹拌し、 生じた白 色固体を濾別、 洗浄（η—へキサン）し、 濾液と 10%シユウ酸水溶 液 とを 3時間撹拌した。 有機層を抽出分離し、 水洗後、 無水硫 酸マグネシウムで乾燥し、 濾過、 濃縮した。 上記操作はいずれもァ ルゴン雰囲気下で行なった。 得られた残渣をシリカゲルカラムクロ マトグラフィー（展開液； n—へキサン ：酢酸ェチル = 5 0 ： 1)に 付し目的とする 2—（1—メチルェチル）一 5， 9—ジメチル 2, 4, 8—デカ トリエナール（1 9 8 ng, 9 0 %)を得た。
    [0393] I R (フィルム） cm— 1 ； 2 9 8 0, 2 9 4 0, 2 8 8 0, 1 6 7 0, 1 6 3 0. 1 4 5 5, 1 3 7 5, 1 2 9 5, 1 2 3 5， 1 1 3 5, 1 1 0 5， 1 0 7 5.
    [0394] NMRCC D Ci3, 2 5 0MHz)(5ppm； 1. 0 7 (d, J = 6. 8 Hz, 6 H, - CH(CH3)2), 1. 6 2， 1. 6 9 (各々135,各々 311，—じ= C CHs). 1. 8 9 (d, J = 1. 0 Hz, 3H, - C = C CH3), 2.1〜2. 3 (m, 4 H, - CH2CH2-), 2. 9 1 (hep, J = 6. 8 Hz, 1 H, - C 且（CH3)2), 5. 1 0 (m, 1 H, = CH C H2-), 6. 8 3， 7. 1 4 (各 々d, J = 1 2. 0 Hz,各々 1 H, = CH- CH = ), 1 0. 2 9 (s, 1 H, - CHO).
    [0395] 実施例 2 3
    [0396] 2—（ジェチルホスホノ）ーィソバレロ二トリル（8.729， 40 ol)のトルエン（75J^)溶液に、 アルゴン雰囲気下、 一 70°Cにて 撹拌しながらカリウムビス（トリメチルシリル）アミ ドの 0.5 Mト ルェン溶液 75 ^を徐々に加え、 浴をはずし室温にて 30分間撹拌 した。 再び、 —70°Cに冷却して、 撹拌しながらフアルネサール（ 5.88 g, 26.7mmol)を加え、 室温にまで昇温した。 反応混合物 に水を加え、 有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食 塩水にて洗浄後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 濾過後濃縮に より得た残渣をシリ力ゲル力ラムクロマ トグラフィ一（展開液； n— へキサン ：酢酸ェチル =100 ： 1)にて精製し、 目的とする 2(1 一メチルェチル）ー 5, 9, 13—トリメチル一 2, 4, 8, 12—テト ラデカテトラェンニトリル（7.23 , 96%, 2 Z ： 2E = 25.6 ： 1)を得た。 2 Z体のスペク トルデータを下に示す。
    [0397] I R (フィルム） ； 2980, 2940, 2210, 1640, 1 450, 1390， 1290， 1225， 1110， 1030.
    [0398] NMRCCD Ci3, 250MHz)< ppm； 1.14 (d, J = 6.8 Hz, 6H, CH(CH3)2), 1.58 (bs, 3 H x 2 ,— C = C C H 3)， 1.6 5 (bs, 3 H,— C = C C H3), 1 · 81 (d, J = 1.2 Hz, 3 H,— C = C CH3), 1.9〜2.2(m， 8 H，— C H 2 C H 2 - x 2 ), 2.50 (hep, J = 6.8 Hz, 1 H, -CH(CH3)2), 5.06 (m, 1H, = CHCH2 一）， 6.26, 6.80 (各々 d, J = 11.5 Hz，各々 1 H, = CH— C H = ).
    [0399] 実施例 24
    [0400] 二トリル体（2—(1—メチルェチル）一 5, 9， 13—トリメチル —2, 4， 8, 12—テトラデカテトラェンニトリル（856 ， 3.0 mmol)の n—へキサン溶液（3 Offi に、 アルゴン雰囲気下、 一 70 °C で撹拌しながら水素化ジィソブチルアルミニウムの 0.5Mトルェ ン溶液 6 ^を加え、 1時間後水 3 ^を加え浴をはずし、 よく撹拌し た。 得られた白色固体を瀘別後、 洗浄して得た濾液を濃縮した。 こ の残渣と n—へキサン（10 n£)に溶解し、 10%シユウ酸水溶液（5 とを併せて 3時間撹拌し、 有機層を抽出分離、 水にて洗浄後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥し、 濾過濃縮後、 シリカゲルカラムク 口マトグラフィー（展開液； n—へキサン ：酢酸ェチル = 10 : 1) に付すと目的とするホルミル体（2—（1一メチルェチル）ー 5, 9, 13— トリメチルー 2， 4， 8， 12—テトラデカテトラェナ一ル（8 65^9, 84%)が得られた。
    [0401] I R (フィルム） cor1 ； 2980, 2940, 2210, 1640, 1 450， 1390， 1290， 1225， 1110, 1030.
    [0402] NMR(CDCi3, 250MHz)<5ppm； 1.07 (d, J = 6.8 Hz, 6H,-CH(CH3)2), 1.59， 1.61, 1.67 (各々 bs, 3HX 3, -C = CCH3).1.89(d, J = l.0 Hz, 3H，一 C = CCH3), 2. 0〜2.2 (m, 8 H,— CH2CH2-x 2), 2.91 (hep, J = 6.8 H z, 1H,-CH(CH3)2), 5.10 (m, 1H，― C = CCH3)， 6.81, 7.16(各々 】=12.0112,各々 111,=〇11ー (：11 =), 10. 29 (s, 1 H，一 CHO).
    [0403] 実施例 25
    [0404] 二酸化セレン 58 および 2—ヒ ドロキシ安息香酸 365m9の塩 化メチレン 10.5 « ^懸濁液に、 水浴上撹拌しながら t—プチルヒ ド 口バーオキシド 80%溶液 11. を徐々に加え、 30分後、 2 一（1—メチルェチル）一 5, 9, 13-トリメチルー 2, 4, 8, 12 ーテトラデカテトラェンニトリル（7.56 , 26.8mmol)を加え室 温に 30時間放置した。 大部分の溶媒を減圧留去後、 残渣をジェチ ルエーテルに溶解し、 有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でよ く洗浄後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 濾過、 濃縮後、 残渣 を n—へキサン ：酢酸ェチル = 10 ： 1〜4 ： 1を展開液とし、 シ リカゲルカラムクロマトグラフィ一に付し、 原料を回収（3. 10 . 40%)すると共に目的物の 14—ヒ ドロキシー 2—（1—メチルェ チル）一 5, 9, 13—トリメチル 2， 4, 8, 12—テトラデカテトラ ェンニ トリノレ（2.53 , 31%,回収換算 52%)を得た。
    [0405] I R (フィルム） cm—1 ； 3450, 2975, 2930, 2880, 2 210, 1635, 1445, 1385, 1220， 1020.
    [0406] NMRCCD Ci3, 250ΜΗζ)5ρρπι； 1.17 (d, J = 6.7 Hz, 6H, CH(C旦 3)2)， 1.62， 1.67(各々1^，各々 311,—。 = 0 CH3)， 1.84(d, J = 1.2Hz, 3H,— C = C CH3), 2.0〜2. 2 (m, 8H, - CH2CH2- X 2), 2.53 (hep, J = 6.7 Hz, 1 H, -CH(CH3)2), 3.99 (bs, 2H, -CH2OH), 5.11 (m, 1 H,-CHCH2-), 5.39(bt, J = 5.5 Hz, 1H,-CHCH2 一）， 6.28, 6.83 (各々 d， J = 11.5 Hz'各々 1 H， = CH— C H = ).
    [0407] 実施例 26
    [0408] アルコール体（14ーヒ ドロキシー 2—（1—メチルェチル）一 5
    [0409] 9, 13— トリメチル 2, 4, 8, 12—テトラデカテトラェンニトリ ル、 904«g, 3.0匪 ol)の四塩化炭素（2^)溶液にトリフユニル ホスフィ ン（1.02 , 3.9 mmol)を加え加熱還流を 1時間行なった。 大部分の四塩化炭素を減圧留去後、 残渣に II一へキサンを加え、 濾 過、 洗浄後、 濾液を濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマト グラフィー（展開液； n—へキサン ：酢酸ェチル = 10 ： 1)に付し 目的とする 14一クロ口体（890 ， 93%)を得た。
    [0410] I R (フィルム） cm— 1 ； 2980, 2940, 2880, 2215, 1 635, 1445， 1390.1265， 1025.
    [0411] NMRCCD Ci3, 250MHz)5ppm； 1.14 (d, J = 6.8 Hz, 6H, CH(CH3)2), 1.59, 1.64 (各々 3，各々 311,—〇=0 CH3), 1.81 (d, J = 1.0Hz, 3H，一C = CCH3), 1.9-2. 2(m, 8H,-CH2CH2-x2), 2.50 (hep, J = 6.8 Hz, 1H, -CH(CH3)2).3.96 (bs, 2H,-CH2OH), 5.08 (m, 1 H, -CHCH2-), 5.36 (bt, J = 5.5 Hz, 1H, = CHCH2-), 6.25, 6.80 (各々 d， J = 11.5Hz,各々 1H， = CH— CH =). 以下の参考例では、 実施例で得た化合物を用いるザルコフィ トー ル Aの製造例を示す c
    [0412] 参考例
    [0413] 3, 7, 11— トリメチル一 12— (メ トキシメチル）ォキシ一 6,
    [0414] 0—ドデカジェン一 1一イン一 3—オール（175 ， 0.62 0
    [0415] 1)、 トリス（卜リフエニルシリル）バナデ一ト（49¾19, 0.062mmo
    [0416] 1)、 および安息香酸（7.6 «9, 0.062mmol)のキシレン溶液（2 B
    [0417] )を 140°Cの油浴上撹拌した。 2時間後、 室温に戻し、 へキサン（
    [0418] 1 を加え、 不溶物を濾別した。 濾液を減圧下、 濃縮し、 残渣 をシリカゲルカラムクロマ卜に付すると 12— (メ トキシメチル）ォ キシ一 3, 7, 1 トリメチルー 2, 6, 10-ドデカ トリェナール
    [0419] (88 «9, δ 0%)が得られた,
    [0420] I R (フィルム） cnr1 ; 2950, 1675, 1450, 1385
    [0421] 98, 1157.1 120, 1 105， 1050, 925, 850 55
    [0422] JH NMRCCD C^s, 250 Hz)(5ppm； 1.57, 1.62. 2. 13(各々 s,各々 3H, CH3C = CH-), 1.93〜 2.30 (m, 8 H,
    [0423] 2 x-C = CH-CH -CH2").3.33 (s， 3 H， CH30)， 3.8 8(s, 2H,-OCIi2C = CH-), 4.57 (s, 2 H,— 0 C H 20—）， 5.06, 5.36 (各々111，各々 1H,-C = CH— CH2—）， 5.84 (d, J = 8.2 Hz, 1 H,-C = CH-CHO), 9.96 (d, J = 8.
    [0424] 2 Hz, 1H， -C = CH-CHO).
    [0425] 参考例 2
    [0426] 3, 7, 11— トリメチルー 12— (メ トキシメチル）ォキシ一 1, 6, 10-ドデカ トリェン一 3—オール（460 » , 1.6minol)のジ クロ口メタン溶液（3 C にピリジニゥムクロ口クロメート 690
    [0427] Ji9(3.2mmol)を加え、 室温で 8時間激しく撹拌した。 反応液にへ キサン一群酸ェチルーエーテル（3 :1 :1, 10 を加え、 撹拌 した後、 不溶物を濾別した。 濾液を減圧下濃縮し、 得られる残渣を シリカゲルカラムクロマトにより精製すると 12—（メ トキシメチ ル）ォキシ一 3, 7, 1 1— トリメチル一 2， 6， 10— ドデカ トリエ ナール（233^, 52%)が得られた。
    [0428] 物性値については参考例 1に記載したものと同一である。
    [0429] 参考例 3
    [0430] アルゴン雰囲気下、 2—（ジェチルホスホノ）一イソバレル二トリ ル（316 m , 1.44腿 ol)のトルエン溶液 にリチウムビス（ トリメチルシリル）ァミ ドの 1.01^へキサン溶液（1.3i^， 1.3 mm ol)を一 70°Cで撹拌しながら滴下した。 30分後、 同温度でホル ミル体（12—（メ トキシメチル）ォキシ一 3, 7, 1 1— トリメチル -2, 6, 10-ドデカ トリェナ—ル）（130 ， 0.46隨 ol)の ト ルェン溶液（2B を加え、 約 3時間かけて室温に昇温した。 反応液 に塩化ァンモニゥム水溶液（61^)を加え、 へキサンで生成物を抽出 した。 抽出液を乾燥（無水硫酸ナトリウム後、 減圧下溶媒を留去し、 得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ ー（展開液； n— へキサン ：醉酸ェチル =20 ： 1)に付すと求める二トリル体 {2— (1ーメチルェチル）一 14— (メ トキシメチル）ォキシ一 5, 9, 13 — トリメチルー 2, 4， 8, 12—テトラエンニトリル）（135 ， 8 5%)が得られた。
    [0431] I R (フィルム） cm— 1 ； 2980, 2945, 2900, 2310, 1 640, 1150, 1050.
    [0432] XN NMRCCD Ci3.250MHz)<5ppm； 1.17 (d, J = 6.8 Hz, 6H， (CH3)2CH-), 1.61, 1.67, 1.84(各々5,各々 3H, CH3C = CH-), 1.96〜2.210n, 8H，一 C = CH— C Hz- C H2- C = C H - C H2- C Hz-), 2.53 (hep, J = 6.8 Hz, 1H,-CH(CH3)2), 3.38(s, 3H， CH30—）， 3.92(s, 2H,-OCH20-)( 4.62 (s, 2 H, - 0 - C H 2- C = C H -), 5.10 (brs, 1H,— C = CH—）， 5.42 (brt, J = 6.4 Hz, 1 H, ー0 =じ11ー）， 6.28, 6.82 (各々(1,】=11.51^,各々 111, -C = CH-CH=C(CN)-). 参考例 4
    [0433] 二トリル体（135νι9, 0.39ππο1)のメ夕ノール溶液（5 η£)にこ ん跡量の濃塩酸を加え、 60°Cに加熱し、 約 6時間撹拌した。 重炭 酸水素ナトリウム飽和水溶液（2 Οι^)を加えエーテル（20« 2) で抽出した。 抽出液を乾燥（無水硫酸マグネシウム）後、 減圧下溶媒 を留去し、 得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ一（ 展開液； n—へキサン ：エーテル =5 ： 1)で精製すると、 ヒ ドロキ シニトリル体（96ng, 82%)が得られた。
    [0434] I R (フィルム） cm— 1 ； 3460, 2980, 2930, 2210, 1 635， 1450， 1020.
    [0435] JH NMRCCD C 3, 250MHz)(5 pm； 1.14 (d, J = 6.8 Hz, 6 H, (CH3)2CH-), 1.58 (m, 4H, CH3C = CH—，一 0 H), 1.65 (s, 3 H, CH3C = CH-), 1.81 (d, J = 1.1 Hz, 3H, CH3C = CH— )， 1.92〜2.25(m, 8H,— C = CH_C H2-CH2-(CH3)C = CH- CH2-CH2-), 2.51 (hep, J
    [0436] =6.8 Hz, 1 H, (CH3)2CH— ), 3.97 (d, J = δ .9 Hz, 2 H, CH.OH), 5.08 (brs, 1 H, -C = CH-), 5.36 (m, 1 H, - C = CH—）， 6.26, 6.80 (各々 d， J = 11.5 Hz,各々 1H， -C = CH-CH=C(CN)).
    [0437] 参考例 5
    [0438] ヒ ドロキシニトリル体（130ng， 0.43mmol)のトルエン溶液（ 5« ）に、 アルゴン雰囲気下、 一 70°Cで水素化ジイソブチルアル ミニゥムの 1 Mトノレエン溶液（2. 0n£, 2. Ommol)を徐々に滴下し た。 一 70°Cで 2時間撹拌後、 1Mシユウ酸水溶液（4. OB ^を加 え、 アルゴン雰囲気下撹拌しながら室温までゆつく りと昇温した。 有機層を水洗、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄、 乾燥（無水 硫酸ナトリウム）後、 減圧下溶媒を留去し、 残渣をシリカゲルクロ マトグラフィ一（展開液； n—へキサン：酢酸ェチル = 7 ： 1)で精 製すると求めるヒ ドロキシホルミル体（11 85%)が得られ フ o
    [0439] I R (フィルム） cnr1 ； 3430, 2960, 2920, 2870, 1 670, 1630, 1450， 1390， 1295， 1230, 1130， 1070, 1010.
    [0440] 'Η NMR(CD Ci3, 250 MHz)5ppm； 1.04(d, 6H, J = 6.8 Hz, - CH(CH3)2), 1.59(d, J = 0.6Hz， 3H, CH3— C=)， 1.63 (brs, 3 H, CH3- C=), 1.86 (d, J = 1.2 Hz, 3H， CH3 - C=)， 1.7〜2.2(m, 8 H, - C i^C -), 2.8 8 (hep. J =6.8 Hz, 1 H, - C H (C H3)2), 3.95 (brs, 2H,一 CH2OH), 5.09(ID, 1H,-CH2CH = ), 5.38 (brt, J = 6. 8 Hz, 1 H, -CH2CH = ), 6.80 (d, J = 12.0 Hz, 1 H, = C H-CH = ), 7.1 l(d, J =l 2.0Hz, 1H, = CH-CH = ), 1 0.25(s, 1H.-CHO).
    [0441] 参考例 6 乾燥した塩化リチウム（64 ， 1.5mmol), 2， 6ールチジン（0. 23 m , 2.0mmol)、 およびヒ ドロキシホルミル体（305 ， 1.0 mmol)のジメチルホルムアミ ド（1. 溶液を氷水上で冷却し、 ァ ルゴン雰囲気下かきまぜながらメタンスルホニルク口リ ド（160Ε 9, 1.4minol)を加えた。 約 8時間後、 原料の消失を確認し、 全体を 水とエーテルに溶解した。 有機層を水洗、 乾燥（MgS
    [0442] 04)、 濃縮して得た残渣を Si02カラムクロマトグラフィー（展開 液 ： π—へキサン ：酢酸ェチル 15 ： 1)にて精製し、 目的物クロ口 ホルミル体（2 S ing, 87%)を得た。
    [0443] I R (フィルム） cm—1 ； 2970, 2930, 2880, 1670, 1 630, 1445, 1390, 1295, 1265, 1135.
    [0444] NMR(CD Ci3, 250MHz)5ppm； 1.04 (d, J = 7.0 Hz, 6H，一 CHCCJi^ .1.59, 1.70 (各々 bs， 各々 3H，一 C = CCH3), 1.87(d, J =1.3Hz, 3H,-C = CCH3), 1.9 一 2.20η, 8Η, -CH2CH2-), 2.89 (hep, J = 7.0 H2, 1 H, 一 CH(CH3)2)， 3.98 (fas, 2H,-CH_2C1), 5.09 (m, 1 H, -C = CHCH2-), 5.47(bt, J = 6.5 Hz, 1H,-C = CHC H2-), 6.82 (d, J = 12.0 Hz, 1 H, -C = CH-CH=C(C HO)-), 7.11(d, J = 12.0Hz,-C = CH-CH=C(CH 0)-), 10.27(s, 1H.-CHO).
    [0445] 参考例 7
    [0446] 二トリル体（14一クロロー 2—（1ーメチルェチル）一 5, 9, 1 3—トリメチル 2, 4, 8, 12—テトラデカテトラェンニトリル、 890«9, 2.78mmol)を n-へキサン 30 a に溶解し、 アルゴン雰 囲気下、 水素化ジィソブチルアルミニウムの 1Mトルエン溶液 4. を一 70°Cにて徐々に滴下した。 1時間後、 の水を加え、 浴をはずし激しく撹拌し、 生じた白色固体を濾過後、 n—へキサン で洗浄して、 得られた濾液をさらに 10%シユウ酸水溶液と共に撹 拌した。 有機層を洗浄、 乾燥、 濂過および濃縮後、 シリカゲルカラ ムクロマ卜グラフィー（展開液； n—へキサン：酔酸ェチル =20 ： 1)に付し目的とするホルミル体（781 87%)を得た。
    [0447] I R (フィルム） cnr1 ； 2970, 2930, 2880, 1670, 1 630， 1445, 1390， 1295， 1265, 1135.
    [0448] NMR(CDCi3, 250MHz)5ppm； 1.04 (d, J = 7.0 Hz, 6H, -CH(CH3)2), 1.59， 1.70 (各々 bs,各々 3H,— C = C CH3), 1.87(d, J = 1.3Hz, 3H,-C = C CH3), 1.9〜 2.2 (m， 8 H,— CH2CH2-), 2.89 (hep, J = 7.0 Hz， 1 H， -CH(CH3)2).3.98 (bs, 2H, -CH2C ), 5.09 (m, 1 H, -C = CHCH2-), 5.47 (bt， J = 6.5 Hz, 1H,-CH = CH CH2— ), 6.82(d, J =12.0Hz, 1 H, - C = C H - C H = C ( CHO)—）， 7.1 l(d, J =l 2.0Hz,-C = CH-CH = C(C HO)-), 10.27 (s, 1H,-CH0).
    [0449] 参考例 8 ホルミル体（14一クロロー 2—（1一（メチルェチル）一 5, 9, 1 3— トリメチル 2, 4, 8, 12—テトラデカテトラェナール、 64 0 B9, 2. Ommol)をトリメチルシリルニトリル（ 0.35 B 2.6薦 o 1)に溶解し、 窒素雰囲気下、 氷水浴上で撹拌しながら極少量のシァ ン化カリウム Z18—クラウン 6—エーテル錯体を加えた。 2時間 後、 原料の消失を確認し、 過剰のトリメチルシリル二トリルを留去 し粗 15—クロロー 3—（1ーメチルェチル）一 6、 10, 14— ト リメチルー 2—（トリメチルシロキシ） 3, 5， 9, 13—ペンタデカ テトラェンニトリル（647 定量的）が得られた。
    [0450] I R (フィルム） cm—1 ; 2960, 2930， 2880， 2320, 1 445, 1255, 1080, 875， 845.
    [0451] NMRCCD Ci3, 250MHz)5ppm； 1.11, 1.15(各々 J = 6.9 Hz'各々 3H,— CH(CH3)2), 1.60, 1.71, 1.7 7(各々5,各々 3H,— C = CCH3)， 1.9〜2.2(m, 8H,— C旦:
    [0452] CH2—）， 2.64 (hep, J = 6.9 Hz, 1 H,— C H(C H3)2), 3.9
    [0453] 9(s, lH,-CH2C ), 5.1 Km, 1H,-C = CHCH2-), 5
    [0454] 33(s, 1H,-CHCN), 5.48 (bt, J = 6.5Hz, 1H,-C =
    [0455] CHCH2—）， 6.04, 6.25 (各々 d, J = 11.3 Hz,各々 1 H, 一 C = CH— CH = C—）.
    [0456] 参考例 9
    [0457] 参考例 8で得た粗シアンヒ ドリントリメチルシリルエーテル体（
    [0458] 647« 純度100%として 2. Ommol)のテトラヒ ドロフラン溶 液（25 «）をアルゴン雰囲気下、 50〜55°Cでリチウムビス（ト リメチルシリル）ァミ ドの 1 Mテトラヒ ドロフラン溶液 4. を亍 トラヒ ドロフラン（2 5a で希釈した溶液に、 撹拌しながら滴下し た。 滴下終了後、 テトラヒ ドロフランを減圧留去し、 残渣をェチル エーテル（3 Οι^)に溶かし、 冷 I N塩酸水溶液、 水および飽和食塩 水にて洗浄した。 得られた有機層を無水硫酸マグネシゥムで乾燥し、 濾過後濃縮により得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ ィ一（展開液； n—へキサン ：酢酸ェチル = 5 0 ： 1〜5 ： 1 )に付 し目的とする環化体 2—（1—メチルェチル）一 5, 9, 1 3— トリメ チルー 1一トリメチルシロキシ 2, 4, 8, 1 2—シクロテトラデカ テトラェンー 1一カルボ二トリル（4 9 6rog, 6 4%)および脱シリ ル環化体（5 6ng, 9 %)を得た。
    [0459] 以下に両環化体の NMRスぺク トルデータを示す。
    [0460] 1ー トリメチルシ口キシ体：
    [0461] NMR(C D Ci3. 2 5 O MHz)^ppm； 0. 2 3 (s, 9 H, - Si( CH3)3). 1. 0 9, 1. 1 5 (各々 】 = 6. 71^，各々 311，一〇11( CH3)2), 1. 5 0, 1. 6 2 (各々bs.各々 3 H,— C = C C H3), 1. 70 (d， J = 1.3 Hz， 3H,-C = CCH3), 2.0〜 2.2 (m, 8 H,
    [0462] — CH2C且 2—）， 2.51 (hep, J =6.7 Hz, 1H，— CH(CH3)2 )， 2.55, 2.65 (各々 J =14.2 Hz，各々 1H，一 CHaHbC N-), 4.94 (bt, J = 6.1Hz, 1H,-C = CHCH2-), 5.1 5(bt， J = 5.6Hz, 1H,-C = CHCH2-), 6.17.6.44C 各々 】=11.8112,各々 ΙΗ,— C = CH— CH=C—）.
    [0463] 1ーヒ ドロキシ体：
    [0464] NMR(CD C 3, 250MHz)(5pp!n； 1.15， 1.19(各々(1, J = 6.7 Hz,各々 3 H, CH(C且 3)2), 1.55, 1.63, 1.69( 各々 s,各々 3H, CH3-C = C-), 1.94〜2.35(m, 8H， CH 2— C = C— )' 2.51 (hep, J = 6.7Hz, 1H, CH(CH3)2), 2. 66, 2.73 (各々 d, J = 14.1 Hz, 2 H, CHaHbC CN), 2.8 9 (brs, 1H, OH), 4.93， 5.24 (各々 brt, J = 5.3 Hz,各々 1 H,-C = CH-CH2-).6.22， 6.420&々d, J = l l. l 112,各々 111，— 011 =〇且ーじ且=じー）.
    [0465] 参考例 10
    [0466] シァノヒ ドリントリメチルシリルエーテル体（2—（1ーメチルェ チル）一 5, 9, 1 3—トリメチルー 1ー トリメチルシロキシ 2. 4, 8, 1 2—シクロテトラデカテトラェンー 1一カルボ二トリル、 6 5 7Β , 1. 7mmol)を 1 0%含水テトラヒ ドロフラン 1 0 £に溶解 し、 これにテトラ n—プチルアンモニゥムフロリ ドの 1 Mテトラヒ ドロフラン溶液 0. 0 2^の氷水浴上に加え、 撹拌後室温にて 2曰 間放置した。 大部分のテトラヒ ドロフランを減圧下留去し、 残渣を ジェチルエーテルに溶解し、 有機層を無水硫酸マグネシゥムで乾燥 し、 濾過、 濃縮後、 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ フィ一に付し、 π—へキサン ：酢酸ェチル（3 0 ： 1 )で展開すると 目的とするケトン体（2—（1ーメチルェチル）一 5. 9, 1 3—トリ メチル 2, 4, 8, 1 2—シクロテトラデカテトラェンー 1一オン（4 l ing, 8 5 %)が得られた。 参考例 11
    [0467] アルゴン雰囲気下、 ケトン体（2—（1一メチルェチル）一5, 9, 13—トリメチル 2， 4, 8, 12—シクロテトラデカテトラェン一 1一オン、 137 ， 0.48腿 ol)の乾燥トルエン 2. 溶液に、 - 70°Cの冷媒浴上撹拌しながら、 水素化ジイソブチルアルミニゥ ムの 1Mトルエン溶液 0.6« を滴下した。 1時間後、 原料の消失 を確認し、 0.25 の水を加え、 浴をはずしよく撹拌した。 無水 硫酸マグネシウムで乾燥後、 撹拌し、 濾過後、 濃縮して得た残渣を シリカゲルカラムクロマトグラフィ一（展開溶媒； n—へキサン：酢 酸ェチル =12 ： 1)にて精製し、 目的とするザルコフィ トール A( 125 » , 88%)を得た。 参考例 1 2
    [0468] アルゴン雰囲気下、 水素化アルミニウムリチウム（8 0. 0 ， 2.
    [0469] 1 1腿 ol)にジェチルエーテル（5π )を加え、 撹拌し、 この懸濁液 に（1R, 2 S)—（一）一 Ν—メチルエフヱ ドリン（308 ， 2.12 mmol)のジェチル溶液（5 を室温で 5分間かけて滴下した。 反応 混合物を撹拌しながら 1時間還流後、 N—ェチルァニリン（0.53 m , 4.23minol)を 5分間かけて滴下し、 さらにこの混合物を 1時 間撹拌しながら還流させた。 反応混合物を一 72 °Cに冷却し、 参考 例 10で製造したケトン体（136π9, 0.475ππηο1)のジェチルェ —テル溶液（3«^)をゆつく りと滴下し、 一 72°Cで 6時間撹拌した。 1 N塩酸（9 n を加え有機層を分離後、 有機層を 3N塩酸（5 X 2)で洗浄し、 無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。 減圧下溶媒を留 去し、 得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ一に付し、 光学活性ザルコフィ トール A (8 l vig, 60%)および未反応のケト ン体（5 lnff， 3 7%)を得た。
    [0470] 得られた光学活性ザルコフィ トール Aの光学純度は光学異性体分 離カラム、 CH I RALCELL 0 D (ダイセル化学工業（株））を 用いる高性能液体クロマトグラフィー（H PLC)分析（以後、 CH I RALCELL 0 Dを用いる H P L C分析と略記する。 ）により、
    [0471] 87 %であった。
    [0472] 参考例 13
    [0473] アルゴン雰囲気下、 水素化アルミニウムリチウムのジェチルエー テル溶液 （2.26 1.40 mmol, 0.62M) を撹拌し、 これに
    [0474] (S)— 2—（ァニリノメチル）ピロリジン（296 «», 1.68 mmol) のジェチルエーテル（3 を室温で 10分間かけて滴下した。 反応 混合物をさらに室温で 1時間撹拌後、 一 72°Cに冷却し、 この混合 物に参考例 10で調製したケトン体（162 ， 0.56匪 ol)のジェ チルエーテル溶液（5« をゆつくり滴下した。 一 72°Cで 1時間撹 拌後、 飽和硫酸ナトリウム水溶液（1«）を加え、 混合物を室温で 1 0分間撹拌した。 1N塩酸水溶液（15» およびジェチルエーテル (20«）を加え、 有機層を分離した。 水層をジェチルエーテル（2
    [0475] 0« ）で抽出し、 抽出液を飽和食塩水（20* で洗浄、 無水硫酸ナ トリウムで乾燥後、 減圧下溶媒を留去した。 得られる残渣をシリカ ゲルカラムクロマトグラフィ一により精製すると、 目的とする光学 活性ザルコフィ トール A(l 26n9, 78%)が得られた。
    [0476] 得られた光学活性ザルコフィ トール Aの光学純度は CH I RAL CELL ODを用いる HP L C分析により、 92%であった。
    [0477] [a ^ : +209.9°(C = 0.372, CHCi3) 参考例 14
    [0478] アルゴン雰囲気下、 水素化アルミニウムリチウムのジェチルエー テル溶液（2.9 £， 2. Offlmol, 0.68M)を撹拌し、 これに（S) 一 2— ( 2 , 6—キシリジノメチノ ピロリジン （ 490 ， 2.4 0 1)を室温でゆつくり滴下し、 滴下終了後、 反応混合物を室温で 2時 間撹拌した。 反応混合物を一 74°Cに冷却し、 これに参考例 10で 調製したケトン体（69 tig, 0.24 ol)のジェチル溶液（3 を 1 0分間かけて滴下した。 一 74°Cで 1時間撹拌後、 硫酸ナトリウム 飽和水溶液（1 を加え、 室温でしばらく撹拌した。 ジェチルエー テル（10» ）および希塩酸（20»）を加え、 有機層を分離後、 水層 をジェチルエーテル（20» で抽出した。 抽出液を飽和食塩水（2 0«^)で洗浄し、 無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、 減圧下溶媒を留 去し、 得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ一により 精製すると、 光学活性ザルコフィ トール A (6 l , 88%)が得ら れた。
    [0479] 得られた光学活性ザルコフィ トール Aの光学純度は CH I RAL CELL ODを用いる HPLC分析により、 93%であることが 判明した。
    [0480] 24
    [0481] [な ] + 204.4°(C = 0.27, CHC 3)
    [0482] D
    [0483] 参考例 15
    [0484] アルゴン雰囲気下、 塩化スズ（Π)(382» , 2.01薦 ol)および (R)— 1—メチル一 2—(ピペリジノメチル）ピロリジン（366 ， 2.0 lmmol)のジクロロメタン懸濁液（6 a を一 72 °Cに冷却し水 素化ジィソブチルアルミニウムの トルエン溶液（1. Ommol)を加え -
    [0485] 10分間撹拌した。 この混合溶液に参考例 10で調製したケトン体 (100«9, 0.349匪 ol)のジクロロメタン溶液（3 B を一 72°C でゆっく り滴下した。 反応混合液を 4時間撹拌後、 飽和食塩水（3m
    [0486] ■ を加え、 室温で 30分間撹拌した。 沈殿物をセライ トで濾過し、 濾液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、 減圧下溶媒を留去した。 得ら れる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ一で精製すると、 光 学活性ザルコフィ トール A (79.2π , 79%)が得られた。
    [0487] 得られた光学活性ザルコフィ トール Αの光学純度は CH I R AL CELL 〇Dを用いる HP L C分析により、 42%であった。 ク1 ϊ
    [0488] [ ] ： + 101.9°(C = 0.54, CUC ) 産業上の利用可能性
    [0489] 上記のごとく、 本発明の式 （ I ) で示される化合物は、 抗発癌プ 口モーター作用および抗腫瘍作用を有するザルコフィ トール Aの合 成中間体として極めて有用であり、 ザルコフィ トールの工業生産に 適した方法を提供するものである。
    权利要求:
    Claims 請 求 の 範 囲
    1. —般式（I)：
    [式中、 Rは基
    R1 R2 0
    I I II
    CH=CHCHCH(CH3)2、 一 CH2CHCCH3、
    HO R4 または 一 CH2CH2CCH3
    (式中、 R1はシァノ基またはホルミル基、 R2は水素原子または一
    C02R3、 Rsは C! C アルキル基、 R4は一 C三 CHまたは一 C
    H=CH2を表す） ； Xは水素原子、 ヒ ドロキシル基、 ハロゲン原 子、 または基 一 OR5または一 OS02R6
    (式中、 R5は水素原子、 1一アルコキシアルキル基、 テトラヒ ド ロフリル基、 テトラヒドロビラニル基、 ァシル基、 または Ci Cs 'アルキル基もしくはフ ニル基で置換されたシリル基、 R6はハロ ゲン原子で置換されていてもよい Ci Caアルキル基または C!〜
    C4アルキル基で置換されていてもよいフヱニル基を表す） ； πは 0 〜2の整数を表す。 但し、
    R2 0 HO R4
    Rがー CH2CHC CH3または一 CH2CH2C CH3であるとき
    Xは一 OR5、 nは 0のみを表し ； R1がホルミル基であるとき、 X はハロゲン原子または一 0 S 02R6ではなく ； R5が水素原子であ るとき、 R2は水素原子ではなく ； R5が 1一エトキシェチル基であ るとき、 R3はメチル基ではないことを条件とする。 ] で示される置換鎖状テルべン系化合物。
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    同族专利:
    公开号 | 公开日
    EP0455826A1|1991-11-13|
    EP0455826A4|1993-10-06|
    引用文献:
    公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
    法律状态:
    1991-06-13| AL| Designated countries for regional patents|Kind code of ref document: A1 Designated state(s): AT BE CH DE DK ES FR GB GR IT LU NL SE |
    1991-06-13| AK| Designated states|Kind code of ref document: A1 Designated state(s): CA US |
    1991-07-26| WWE| Wipo information: entry into national phase|Ref document number: 1990917539 Country of ref document: EP |
    1991-07-29| WWE| Wipo information: entry into national phase|Ref document number: 2045695 Country of ref document: CA |
    1991-11-13| WWP| Wipo information: published in national office|Ref document number: 1990917539 Country of ref document: EP |
    1995-08-13| WWR| Wipo information: refused in national office|Ref document number: 1990917539 Country of ref document: EP |
    1995-11-08| WWW| Wipo information: withdrawn in national office|Ref document number: 1990917539 Country of ref document: EP |
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
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